朱冀梁
- 作品数：3 被引量：5H指数：2
- 供职机构：苏州大学信息光学工程研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：电子电信机械工程更多>>
- 基于DMD微光刻的导光板模板的制作方法被引量：3
- 2009年
- 提出了一种基于数字微反射镜(DMD)微光刻的导光模板的制作方法。导光板的网点单元图形由DMD输入,经过缩微光学成像系统缩微后,在光刻胶干板上逐单元网点曝光,再经过显影、微电铸得到导光板模板,在PC薄板材上用微纳米压印制成导光板,厚度仅为0.381 mm。采用自行研制的SVGwriting-DMD激光直写系统,图形的最小分辨率为2μm,DMD微光刻法无需掩膜版,可实现不同形状、大小、微结构的单元网点图形及网点的排布,便于大幅面的导光板模板的制作。
- 李晓建朱冀梁申溯周小红陈林森
- 关键词：激光直写导光板
- 多光束纳秒紫外激光制作硅表面微结构被引量：2
- 2009年
- 使用波长351nm的半导体泵浦全固态脉冲激光器作为光源,经过位相光栅分束,形成干涉光场,在硅表面直接刻蚀微结构,制作了周期为0.55μm,槽深可达55nm的一维微光栅和周期为1.25μm,刻蚀深度45nm的正交微光栅结构.给出了微光栅形貌结构的扫描电子显微镜和原子力显微镜的测量结果.正交微光栅的一级衍射效率在1.8%～6.3%之间.该研究是改变硅表面微结构,优化硅材料特性的一种新方法,并扩展了大功率激光刻蚀在表面微加工领域的应用.
- 朱冀梁张恒陈林森李晓建周小红
- 关键词：衍射效率
- 硅表面微光栅结构的纳秒激光干涉刻蚀研究
- 微光栅结构的制作一直是微加工领域的一个研究热点。由于制作的光栅周期很小，以及成本、环境要求、工艺复杂程度和运行效率等因素，目前适合工业化生产的微光栅结构制作方法较少。本文主要开展了采用纳秒激光干涉刻蚀的方法在硅片表面直接...
- 朱冀梁
- 关键词：纳秒激光有机硅全固态激光器光反射
- 文献传递
