王佳宇
- 作品数：10 被引量：5H指数：1
- 供职机构：吉林大学更多>>
- 相关领域：电子电信一般工业技术理学生物学更多>>
- 金刚石厚膜热沉基板的金属化工艺
- 本发明属金刚石厚膜热沉基板的金属化工艺、采用MnO<Sub>2</Sub>、Ni、Au三种浆料、顺序分三次丝网印刷在金刚石厚膜生长面上，每次印刷后都在400～550℃温度下预烧5～20分钟，最后在真空度10<Sup>-2...
- 王佳宇陈宏宇吕宪义白亦真金曾孙
- 文献传递
- 底成本高品质金刚石膜生长技术和热沉应用
- 金曾孙顾长志吕宪义白亦真姜志刚王佳宇纪红曹培江杨广亮孙越
- 该项目为“863”新材料领域重大项目，该项目建立低成本高导热金刚石膜的制备方法和制备技术，即用直流热阴极PCVD方法实现高导热大面积金刚石膜的快速生长。采用微波PCVD方法制备大面积高纯金刚石薄膜，满足SOD材料的制备要...
- 关键词：
- 关键词：金刚石膜热沉
- 高分子聚合物湿敏材料及其元件的研制
- 王佳宇
- 松嫩平原喇嘛寺泡25 kaBP以来植硅体记录的古植被古气候演化
- 松嫩平原位于季风气候区,对气候变化反应敏感,是进行古气候研究的理想区域。本文选取了松嫩平原喇嘛寺泡剖面,提取了剖面558个样品的植硅体,进行AMS14C测年,分析植硅体数据及组合特征,通过植硅体组合特征、古气候指数、古植...
- 王佳宇
- 关键词：植硅体古植被古气候
- 金刚石厚膜热沉基板的金属化工艺
- 本发明属金刚石厚膜热沉基板的金属化工艺,采用MnO<Sub>2</Sub>、Ni、Au三种浆料,顺序分三次丝网印刷在金刚石厚膜生长面上,每次印刷后都在400～550℃温度下预烧5～20分钟,最后在真空度10<Sup>-2...
- 王佳宇陈宏宇吕宪义白亦真金曾孙
- 文献传递
- 稀土化合物浆料及金刚石厚膜的表面刻蚀方法
- 本发明属金刚石厚膜的表面刻蚀方法。采用稀土化合物浆料,如以氧化铈和硝酸镧为原料的浆料,印刷于金刚石厚膜生长面,再经400～600℃烧结2～5小时,最后用浓硫酸清洗。浆料是将原料与溶剂混合研磨再加调和剂配制而成。本发明原料...
- 王佳宇陈宏宇白亦真金曾孙
- 文献传递
- 基于表面增强拉曼高通量靶向药物筛选技术的研究
- 王佳宇
- CVD金刚石厚膜的稀土化合物浆料刻蚀(英文)
- 2001年
- 与现有的金刚石膜抛光工艺相匹配的高效刻蚀技术，是目前研究的热点。自行研制的稀土 化合物浆料对 CVD金刚石厚膜进行了刻蚀研究，刻蚀过程在低于金刚石氧化点的温度下和大气 环境中完成。其刻蚀结果，用扫描电子显微镜给出。实验表明 ,该工艺采用廉价的稀土化合物为 原料，具有简单、安全、高效的特点。
- 王佳宇白亦真陈宏宇吕宪义金曾孙纪红
- 关键词：CVD刻蚀
- 稀土化合物浆料及金刚石厚膜的表面刻蚀方法
- 本发明属金刚石厚膜的表面刻蚀方法。采用稀土化合物浆料，如以氧化铈和硝酸镧为原料的浆料，印刷于金刚石厚膜生长面，再经400～600℃烧结2～5小时，最后用浓硫酸清洗。浆料是将原料与溶剂混合研磨再加调和剂配制而成。本发明原料...
- 王佳宇陈宏宇白亦真金曾孙
- 文献传递
- 稀土化合物浆料对CVD金刚石厚膜的刻蚀被引量：5
- 2002年
- ＣＶＤ金刚石厚膜具有极高的硬度，使得对其进行表面抛光极为困难．传统的机械抛光方法既不经济又耗费时间，而一些新的抛光技术又由于实验条件限制而难以推广．针对以上情况，我们寻求到一种新的化学刻蚀方法，即利用稀土化合物浆料对金刚石厚膜生长表面进行刻蚀，破坏表面的晶粒使之成为晶骸，降低表面的耐磨性，以提高表面粗糙的金刚石厚膜的抛光效率．
- 王佳宇金爱子白亦真纪红金曾孙
- 关键词：CVD刻蚀表面形貌
