孟婕
- 作品数：21 被引量：35H指数：3
- 供职机构：中国工程物理研究院激光聚变研究中心更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划国家自然科学基金中国工程物理研究院科学技术发展基金更多>>
- 相关领域：理学核科学技术自动化与计算机技术机械工程更多>>
- 一种测量微球内部气体压强的装置及方法
- 本发明的公开了一种测量微球内部气体压强的装置及方法，该装置和方法是通过在真空壳内采用波纹管式的压碎机构压碎待测微球和标定球，通过压碎前后真空壳的气压变化，标定真空壳的体积并精确测量微球内部气体压强。该装置和方法适用于对微...
- 王宗伟陆晓明马小军王琦孟婕胡勇高党忠陈雪唐兴叶成钢顾倩倩
- 文献传递
- 一种测量感光胶片X射线能谱灵敏度的等价吸收方法
- 本发明提供了一种测量感光胶片X射线能谱灵敏度的等价吸收方法，该方法采用X射线管照射两个材料不同、组成成分和厚度已知的多厚度样品，透射X射线对感光胶片曝光，对胶片冲洗和数字化得到底片的黑度或灰度；建立两种多厚度样品各自的X...
- 王宗伟马小军王琦孟婕高党忠唐兴陈雪叶成钢顾倩倩姜凯
- 一种测量微球内部气体压强的装置及方法
- 本发明的公开了一种测量微球内部气体压强的装置及方法，该装置和方法是通过在真空壳内采用波纹管式的压碎机构压碎待测微球和标定球，通过压碎前后真空壳的气压变化，标定真空壳的体积并精确测量微球内部气体压强。该装置和方法适用于对微...
- 王宗伟陆晓明马小军王琦孟婕胡勇高党忠陈雪唐兴叶成钢顾倩倩
- 一种测量感光胶片X射线能谱灵敏度的等价吸收方法
- 本发明提供了一种测量感光胶片X射线能谱灵敏度的等价吸收方法，该方法采用X射线管照射两个材料不同、组成成分和厚度已知的多厚度样品，透射X射线对感光胶片曝光，对胶片冲洗和数字化得到底片的黑度或灰度；建立两种多厚度样品各自的X...
- 王宗伟马小军王琦孟婕高党忠唐兴陈雪叶成钢顾倩倩姜凯
- 文献传递
- X射线相衬成像法检测内爆靶参数被引量：1
- 2012年
- 理论分析了利用X射线同轴离焦相衬成像法测量金黑腔内塑料中心微球位置的可行性,在此基础上进行了实验研究。实验结果证明,由于低Z低密度材料对高能X射线有相位调制作用,因此仍能够形成一定的图像反差,这种效应并不依赖X射线的能量,因此在一定的尺度范围内,可以实现高Z高密度材料与低Z低密度材料在高能X射线下同时成像,克服了传统吸收成像的不足,最终实现了内爆靶装配参数的精密检测。
- 高党忠赵学森马小军孟婕刘学贾鹏
- 关键词：惯性约束聚变
- 用于惯性约束聚变靶丸测量的激光差动共焦传感器被引量：14
- 2013年
- 针对目前原子力显微镜等方法只能测量激光惯性约束核聚变(ICF)靶丸外表面等难题,研制了高精度、非接触、小型化的激光差动共焦传感器(LDCS)。该传感器基于差动共焦原理,利用激光差动共焦轴向响应曲线的零点对靶丸内外表面和球心分别进行定位,并结合物镜微位移驱动技术,实现靶丸内外表面和壳层厚度的高精度测量。该方法减少了靶丸表面的反射率、倾斜等因素对测量瞄准特性的影响,显著提高了系统的抗干扰能力。将传统的显微成像与差动共焦测量光路进行有机融合,实现了对被测样品的精确瞄准。初步实验与理论分析表明:当测量物镜的数值孔径NA为0.65时,LDCS的轴向分辨力优于5nm,信噪比优于1 160,过零点的标准偏差为10nm。该传感器为激光惯性约束核聚变靶丸测量提供了一种新的技术途径。
- 郭俊杰邱丽荣王允孟婕高党忠
- 关键词：惯性约束聚变
- 一种测量非透明薄膜厚度分布的双面干涉装置和方法
- 本发明提供了一种测量非透明薄膜厚度分布的双面干涉装置和方法，所述方法设置了两个物光对向、共轴的白光干涉光路，位移台带动厚度标样或薄膜样品沿物光光轴方向步进运动，同时，两个面阵探测器采集厚度标样或薄膜样品表面的形貌信息，通...
- 王宗伟孟婕王琦马小军高党忠唐兴杜凯
- 文献传递
- 一种检测微球与充气管组件导通性的装置
- 本申请涉及一种检测微球与充气管组件导通性的装置，该装置包括X射线能谱测量装置、微球与充气管组件充放气装置、数据采集与控制卡和计算机；本实用新型的一种检测微球与充气管组件导通性的装置是将诊断气体注入至微球与充气管组件内，通...
- 王宗伟王冰马小军王琦孟婕叶成钢唐兴陈雪顾倩倩胡勇
- 文献传递
- 测量塑料靶丸零前气压的白光干涉定位法
- 惯性约束聚变(ICF)实验中,塑料三层靶丸中微量燃料气压是测算核聚变反应效率的重要参量,也是测量的难点问题。分析目前方法的优点和不足,提出了测量塑料靶丸零前气压的白光干涉定位法。以干涉显微镜为主体结构,通过计算机控制压电...
- 王宗伟高党忠马小军孟婕
- 关键词：气压白光干涉
- 文献传递
- 用于扫描电子显微镜中的X射线靶组件
- 本发明公开了一种用于扫描电子显微镜中的X射线靶组件，涉及扫描电子显微镜技术领域，可对SEM电子束轰击靶材后产生的二次电子进行有效屏蔽，解决二次电子及其诱发的杂散光对X射线对成像质量造成不良影响的问题。本发明采用的技术方案...
- 王琦王宗伟唐兴孟婕马小军顾倩倩高党忠姜凯马文朝
