石明
- 作品数：10 被引量：5H指数：1
- 供职机构：清华大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金北京市重点实验室开放基金更多>>
- 相关领域：化学工程一般工业技术电子电信更多>>
- 一种二芳烯化合物及其制备方法与应用
- 本发明公开了一种二芳烯化合物及其制备方法与应用。本发明所提供的光致变色二芳烯化合物，其结构式如式I所示。本发明的二茂铁二芳烯化合物由于引入了苯环等功能基团，使得二芳烯的开环态和闭环态之间共轭范围变化增大；同时，在分子中存...
- 刘学东石明陈子辉范桂芳张复实
- 文献传递
- 光致变色二芳烯化合物的新用途
- 本发明公开了光致变色二芳烯化合物的新用途。发明人通过实验证实，以光致变色二芳烯化合物为掩膜层的近场超分辨率光存储光盘具有存储密度高，记录信息尺寸小等优点，实现超分辨近场光存储，应用前景广阔。
- 张复实石明易家祥刘学东赵福群陈子辉
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- 光致变色二芳烯化合物的新用途
- 本发明公开了光致变色二芳烯化合物的新用途。本发明发明人通过实验证实，以光致变色二芳烯化合物为掩膜层的近场超分辨率光存储光盘具有存储密度高，记录信息尺寸小等优点，实现超分辨近场光存储，应用前景广阔。
- 张复实石明易家祥刘学东赵福群陈子辉
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- 光致变色化合物掩膜的超分辨率效应研究
- 石明
- 关键词：光致变色超分辨率PHOTOCHROMISMSUPER-RESOLUTION
- 有机光致变色材料的合成与多阶存储实验研究被引量：5
- 2006年
- 本实验介绍了用于多阶光存储材料的有机光致变色的二芳基乙烯化合物合成,存储的膜片制作和多阶光存储实验。结果显示:用1,2-双(2-甲基-5-(4-醛基苯基)噻吩-3-基)全氟环戊烯作为多阶光存储的记录材料,与PMMA掺杂,采用旋涂法制成存储膜片,可以实现八阶光信息存储。
- 刘学东石明张复实
- 关键词：光致变色二芳基乙烯
- 一种二芳烯化合物及其制备方法与应用
- 本发明公开了一种二芳烯化合物及其制备方法与应用。本发明所提供的光致变色二芳烯化合物，其结构式如式I所示。本发明的二茂铁二芳烯化合物由于引入了苯环等功能基团，使得二芳烯的开环态和闭环态之间共轭范围变化增大；同时，在分子中存...
- 刘学东石明陈子辉范桂芳张复实
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- 光致变色二芳烯掩膜在近场光存储中的应用
- 合成了在Super-rens存储方式中适合做掩膜层和记录层材料的两种全氟二芳烯,旋涂法制备了实验存储盘片,并进行了近场存储实验。初步的实验表明光致变色二芳烯掩膜层可以缩小聚焦激光的直径,得到小尺寸记录信息。掩膜层中二芳烯...
- 石明牛丽红佟庆笑唐应武张复实
- 关键词：物理化学光致变色SUPER-RENS
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- 二芳基乙烯类化合物的新用途
- 本发明公开了二芳基乙烯类化合物的新用途。本发明发明人通过实验证实，采用结构式如式I的二芳基乙烯类化合物作为近场光存储介质，当在适当波长的激光照射下，被辐照区域有色的闭环态分子立即发生开环反应生成无色开环态分子，未被辐照区...
- 张复实刘学东赵福群石明
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- 光致变色二芳烯掩膜及在近场光存储中的应用
- 2007年
- 合成了在超分辨率近场结构(Super-RENS)存储方式中适合做掩膜层和记录层材料的两种全氟二芳烯,旋涂法制备了实验存储盘片,并进行了近场存储实验.初步的实验表明,光致变色二芳烯掩膜层可以缩小聚焦激光的直径,得到小尺寸记录信息.掩膜层中二芳烯的浓度,对近场存储结果影响很大,存在一个最佳浓度使记录光斑的尺寸减少到最小.
- 石明牛丽红佟庆笑唐应武通讯联系人：张复实，E-mail：zhangfs@mailtsinghua．edu．cn．张复实张复实
- 关键词：物理化学光致变色
- 光致变色二芳烯掩膜在近场光存储中的应用
- 合成了在Super-rens存储方式中适合做掩膜层和记录层材料的两种全氟二芳烯,旋涂法制备了实验存储盘片,并进行了近场存储实验。初步的实验表明光致变色二芳烯掩膜层可以缩小聚焦激光的直径,得到小尺寸记录信息。掩膜层中二芳烯...
- 石明牛丽红佟庆笑唐应武张复实
- 关键词：物理化学光致变色SUPER-RENS
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