耿永友
- 作品数：47 被引量：50H指数：5
- 供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划中国科学院院地合作项目更多>>
- 相关领域：电子电信化学工程一般工业技术理学更多>>
- 光聚合在光盘存储技术中的应用
- 该文选择丙烯酸脂类光交联固化胶(简称2P胶)在特别设计的高压汞灯下进行固化,建立光固化胶膜层吸收光能模型.将光聚合用于光盘复制过程.用粘附理论对脱模过程界面力进行分析.实验测定2P胶对基片、镍印模的拉伸剪切强度.测定了P...
- 耿永友
- 关键词：光聚合光盘存储技术设计方法
- 有机无机复合激光热刻蚀薄膜和微纳图形制备的方法
- 一种有机无机复合激光热刻蚀薄膜和微纳图形制备的方法，该有机无机复合激光热刻蚀薄膜包括沉积在基片上的ZnS-SiO<Sub>2</Sub>薄膜和旋涂在ZnS-SiO<Sub>2</Sub>薄膜上的腙类金属螯合物有机薄膜。所...
- 李豪耿永友吴谊群
- 文献传递
- 激光直写有机热刻蚀材料及其制备方法
- 一种激光直写有机热刻蚀材料及其制备方法，该材料是利用2-甲基间苯二酚或1，2，3-三苯酚与醛类在酸的催化下发生缩合反应生成的。该材料用于激光直写制备凸起型微米及纳米级图形结构，不需要用飞秒激光脉冲、不需要多层膜结构，而只...
- 邓常猛耿永友吴谊群
- 一次写入型蓝光存储无机介质及其制备方法
- 一次写入型蓝光存储无机介质及其制备方法，该一次写入型蓝光存储无机介质是由锑Sb和硅Si通过反应磁控溅射法在衬底上制备的Sb-Sb<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>-SiO<Sub>2</Sub>复合薄膜，...
- 周莹耿永友顾冬红朱青蒋志
- 文献传递
- 蓝光可录存储的无机记录材料及其制备方法
- 一种蓝光可录存储的无机记录材料及其制备方法，它是一种由NiFe合金用反应磁控溅射法制备的NiFeO薄膜，其成分为NiO，Ni<Sub>2</Sub>O<Sub>3</Sub>，Fe<Sub>2</Sub>O<Sub>3<...
- 周莹耿永友顾冬红
- 文献传递
- 偶氮金属镍薄膜的折射率和吸收特性研究被引量：6
- 2004年
- 偶氮金属镍 (Ni(azo) 2 )是一类具有很大潜力的可录光盘存储介质。为了准确地获取一种偶氮金属镍薄膜的光学常数 ,用旋涂法 (Spin- coating)在单晶硅片上制备了 Ni(azo) 2 薄膜。在波长扫描和入射角可变全自动椭圆偏振光谱仪上研究了 Ni(azo) 2 薄膜的椭偏光谱。采用逼近算法获得了 Ni(azo) 2 薄膜在可见光范围内的复折射率、复介电函数、吸收系数和薄膜厚度。分析了 Ni(azo) 2 薄膜可见吸收光谱的形成机理。结果表明在波长 6 5 0 nm处薄膜的折射率为 2 .19,吸收常数为 0 .0 2 3,具有良好的吸收和反射特性 ,显示出作为高密度数字多用光盘 (DVD- R)记录介质的良好应用前景。
- 耿永友顾冬红干福熹
- 关键词：薄膜物理学薄膜光学常数椭偏光谱
- 激光光刻技术的研究与发展被引量：13
- 2012年
- 光刻技术作为制备半导体器件的关键技术之一将制约着半导体行业的发展和半导体器件的性能。随着半导体工业的发展,集成电路的特征尺寸越来越小,光刻技术将面临新的挑战。分析了激光光刻技术,包括投影式光刻和激光无掩膜光刻技术的研究现状,着重介绍了极紫外光刻(EUVL)作为下一代光刻技术的发展前景和技术难点、激光无掩膜光刻技术的发展,特别是激光近场扫描光刻、激光干涉光刻、激光非线性光刻等新技术的最新进展及其在高分辨率纳米加工领域的应用前景。
- 邓常猛耿永友吴谊群
- 膜厚对Sb_2Te_3薄膜光学性质的影响被引量：4
- 2011年
- 超分辨近场结构光存储技术(Super-RENS)是一种利用功能薄膜结构实现突破光学衍射极限的信息点记录和读取的新技术,作为超分辨光盘结构的掩膜材料是决定其性能的关键。利用透射电子显微镜研究了可作为超分辨光盘掩膜层Sb2Te3薄膜的晶态结构、表面形貌;利用光谱仪和椭偏仪分析了其光学性质随膜厚的变化。结果表明,沉积态Sb2Te3薄膜呈弱晶状态,在一定厚度范围内,其光学性质随膜厚的不同有较大变化。当膜较薄时,其消光系数和折射率随膜厚的增加而减小;当膜厚达到一定值时,其光学常数随膜厚的增加逐渐趋于稳定,即存在膜厚影响临界值。消光系数和折射率的膜厚影响临界值分别在80nm和50nm左右。薄膜的光学性质与膜厚的关系可以用薄膜结构的连续性来解释。
- 张奎耿永友吴谊群顿爱欢李豪
- 关键词：光学性质膜厚
- 高密度可录数字光盘红光染料薄膜的制备方法
- 耿永友顾冬红干福熹
- 一种高密度可录数字光盘红光染料薄膜的制备方法，所用的染料是由2－氨基噻唑经重氮化与3－二丙氨基苯酚耦合获得的杂环单耦氮金属镍螯合物。制备薄膜设备中的加料手是由单片机控制的步进电机驱动。加料手的驱动速度随盘基径向位置变化分...
- 关键词：
- 超分辨光盘的掩膜层及其制备方法
- 一种超分辨光盘的掩膜层及其制备方法，该掩膜层是Ag掺杂Si的复合薄膜，该复合薄膜中Si的含量为13.8mol％～15.3mol％，该掩膜层(I)厚度为30～50nm。该掩膜层采用共溅的方法制备，掩膜层中Si的成分与其它制...
- 赵石磊耿永友施宏仁
- 文献传递
