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朱金龙

作品数：35 被引量：3H指数：1
供职机构：华中科技大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：自动化与计算机技术理学机械工程电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 34篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 6篇自动化与计算...
  • 4篇机械工程
  • 4篇理学
  • 3篇电子电信
  • 1篇文化科学

主题

  • 10篇半导体
  • 9篇向量
  • 8篇向量机
  • 7篇纳米
  • 6篇空间光调制器
  • 6篇光调制器
  • 6篇半导体纳米结...
  • 5篇三维形貌
  • 4篇调制器
  • 4篇形貌
  • 4篇支持向量
  • 4篇支持向量机
  • 4篇特征尺寸
  • 4篇分光器
  • 4篇半导体制造
  • 3篇迭代
  • 3篇叠片
  • 3篇映射
  • 3篇三维形貌测量
  • 3篇显微成像

机构

  • 35篇华中科技大学
  • 5篇湖北工业大学

作者

  • 35篇朱金龙
  • 19篇刘世元
  • 11篇张传维
  • 11篇陈修国
  • 4篇董正琼
  • 3篇于哲
  • 3篇谷洪刚
  • 3篇江浩
  • 2篇彭攀
  • 2篇石雅婷
  • 1篇钟磊
  • 1篇陈侃
  • 1篇周向东

年份

  • 11篇2024
  • 8篇2023
  • 2篇2022
  • 4篇2015
  • 3篇2014
  • 4篇2013
  • 3篇2012
共 35 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种堆叠晶圆间隙的距离测量装置及测量方法
本发明属于晶圆检测领域，涉及一种堆叠晶圆间隙的距离测量装置及测量方法。该测量装置包括光源分光器，Y轴位移台，反射镜，Z轴位移台，棱镜；光源分光器用于连接参考光路和测量光路；其中，参考光路位于光源分光器的反射光路方向，测量...
朱金龙赵翔宇
一种无掩膜制造微纳米结构的系统与方法
本发明公开了一种无掩膜制造微纳米结构的系统与方法，属于微纳制造技术领域，系统包括刻蚀加工光路、测量光路和主机；其中，刻蚀加工光路包括：激光器、准直器、偏振片、第一中继透镜、第一分束器、空间光调制器和物镜，测量光路用于对样...
朱金龙彭攀刘心沁
一种高速光学相位测量系统、测量方法及其应用
本发明属于相位测量相关技术领域，其公开了一种高速光学相位测量系统、测量方法及其应用，系统包括照明模块、显微模块、干涉模块、相机模块、高精度定位台以及控制与数据处理模块，照明模块包括准直光源；显微模块包括分束镜；干涉模块包...
朱金龙李泽迪
纳米结构光学散射测量中的形貌重构方法研究
凭借快速、非破坏、低成本等特性，光学散射仪已经被广泛运用在集成电路制造工艺线上的纳米结构几何形貌关键尺寸(CD,Critical Dimension)测量中。光学散射测量本质上是一种基于模型的技术，该技术通过将理论光谱与...
朱金龙
关键词：逆问题支持向量机
一种改进的基于支持向量机的纳米结构特征尺寸提取方法
本发明公开了一种改进的基于支持向量机的半导体纳米结构特征尺寸提取方法，步骤为：确定每一个待提取参数的取值范围，生成子光谱数据库；利用训练光谱和支持向量机训练网络进行支持向量机训练；对每一个待提取参数利用训练光谱重复训练多...
刘世元朱金龙张传维陈修国
文献传递
一种空间光调制器相位调制性能测试方法及系统
本发明公开了一种空间光调制器相位调制性能测试方法及系统，属于空间光调制器的测量领域，包括：S1、生成一幅灰度值在0‑255灰度区间内呈均匀梯度变化的灰度图像；S2、将所述灰度图像加载在待测空间光调制器上，并将待测空间光调...
朱金龙徐仁董正琼周向东聂磊
一种用于光学散射测量的基于拟合误差插值的库匹配方法
本发明公开了一种用于光学散射测量的基于拟合误差插值的库匹配方法，包括：确定样品待测结构参数的变化范围并对其执行离散化处理，将所获得的离散网格点及其对应理论光谱值储存到光谱库中；获得待测样品的测量光谱并计算出离散网格点对应...
刘世元陈修国张传维朱金龙
文献传递
一种堆叠片曲面变形测量装置及方法
本发明属于表面三维形貌测量相关技术领域，并公开了一种堆叠片曲面变形测量装置及方法。该装置包括光源、分光器、反射镜、微反射镜和相机，其中，分光器设置在所述光源后方，反射镜和微反射镜均设置在所述分光器后方，待测堆叠片设置在所...
朱金龙赵翔宇
一种基于双通道卷积神经网络的晶圆缺陷分类方法及系统
本发明属于缺陷分类检测领域，并具体公开了一种基于双通道卷积神经网络的晶圆缺陷分类方法及系统，其包括：分别获取各种晶圆缺陷类型对应的多组图像对，构建缺陷类型‑图像对数据集；其中，一组图像对包括缺陷晶圆的远场空间像二阶差分图...
刘世元陈侃刘佳敏钟磊朱金龙谷洪刚江浩
一种基于振幅全息掩模的光刻系统及方法
本发明属于半导体光刻相关技术领域，并公开了一种基于振幅全息掩模的光刻系统及方法。该光刻系统包括光源、准直器、第一分束器、空间光调制器、振幅全息掩模和会聚透镜，其中，准直器将光源发出的光线准直，第一分束器接受从准直器出射的...
朱金龙刘世元冯献瑞张震阳
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