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宋健
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1
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供职机构:
南京理工大学理学院应用物理系
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国家自然科学基金
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相关领域:
理学
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合作作者
阚二军
南京理工大学理学院应用物理系
邓开明
南京理工大学理学院应用物理系
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南京理工大学理学院应用物理系
陆瑞锋
南京理工大学理学院应用物理系
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南京理工大学理学院应用物理系
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单层硅Si_6H_4Ph_2的稳定性和电子结构密度泛函研究
2012年
采用密度泛函计算方法,研究了二维单层硅Si6H4Ph2的稳定性及其电子结构.通过对纯硅纳米片Si6、加氢钝化的硅纳米片Si6H6以及添加苯基钝化的硅纳米片Si6H4Ph2对比研究,揭示了Si6H4Ph2的稳定性机理.通过电子结构研究,发现Si6H4Ph2与Si6H6类似,显示间接带隙半导体性质.
宋健
李锋
邓开明
肖传云
阚二军
陆瑞锋
吴海平
关键词:
稳定性
电子结构
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