严鸿维
- 作品数：57 被引量：39H指数：4
- 供职机构：中国工程物理研究院激光聚变研究中心更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金中国工程物理研究院发展基金中国工程物理研究院科学技术发展基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信机械工程一般工业技术更多>>
- 一种光学元件表面热敏性缺陷无损检测系统及方法
- 本发明公开了一种光学元件表面热敏性缺陷无损检测系统及方法，其中光学元件表面热敏性缺陷无损检测系统包括光学相干层析成像装置、激光泵浦装置和信号处理与控制模块。采用以上技术方案的一种光学元件表面热敏性缺陷无损检测系统及方法，...
- 姚霖黄进刘太祥李昌朋杨科严鸿维黄林
- 大气常压等离子射流清洗溶胶-凝胶SiO2膜表面油脂污染物
- 采用大气常压等离子射流技术对溶胶-凝胶SiO2 膜表面的油脂污染物进行清洗。利用分光光度计、扫描电子显微镜、红外光谱仪对溶胶-凝胶SiO2 膜透过率、表面形貌、化学结构进行表征，并分析清洗前后溶胶-凝胶SiO2 膜的激光...
- 刘昊苗心向杨科吕海兵邹睿周国瑞程晓峰严鸿维袁晓东贾宝申
- 关键词：激光损伤阈值
- 一种高抗激光损伤性能石英表面的制备方法
- 本发明涉及一种高抗激光损伤性能的石英表面制备方法，包括以下步骤：先对石英基片进行刻蚀处理；其后再对所述石英基片进行Marangoni干燥处理；最后再对所述石英基片进行二氧化碳激光热处理；通过刻蚀能够有效去除石英表面的抛光...
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- 一种耐磨高透光学薄膜及其制备方法
- 本发明涉及光学薄膜技术领域，提供了一种耐磨高透光学薄膜及其制备方法。本发明采用化学液相成膜的技术，使用氧化锆溶胶镀制内层膜，采用酸催化二氧化硅溶胶镀制外层膜，所得双层膜体系即为本发明的耐磨高透光学薄膜，该光学薄膜既具有很...
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- 溶胶-凝胶双层三波长增透膜制备被引量：1
- 2015年
- 通过理论模拟与实验相结合,研究了以双层膜的方式实现三波长增透的途径。以正硅酸乙酯为前驱体,采用酸催化与碱催化溶胶混合的方式调控了溶胶折射率,并配制了双层复合膜所用的两种溶胶,制备出了351nm处透过率大于99.5%,527nm透过率大于98%,1053nm透过率大于98%的三波长增透膜。用扫描电镜、原子力显微镜观测了膜层结构,用椭偏仪和分光光度计对膜层性能进行了表征。三波长增透膜对高功率激光装置的运行性能提升起到了积极的促进作用。
- 赵松楠吕海兵王韬严鸿维张尽力袁晓东郑万国
- 关键词：溶胶-凝胶增透膜双层膜
- 二氧化硅光子晶体异质结构的制备与性质研究被引量：8
- 2010年
- 利用垂直沉积技术制备了高质量的二氧化硅蛋白石结构和光子晶体异质结构,采用扫描电镜和光学透射谱进行了样品的结构表征。对同一样品不同区域的扫描电镜照片进行快速傅里叶变换分析,证实了胶体晶体的长程有序排列。通过对具有不同晶格常数的二氧化硅蛋白石结构的光学透射谱进行研究,提出光学透射谱中透射背景向短波长区域平滑的下降可能来自于结构缺陷散射的影响。与相应的蛋白石结构相比,光子晶体异质结构的光子禁带明显展宽,禁带深度也相对变浅,推测其来自于膜厚的影响。异质结构中各个光子禁带位置与蛋白石结构相比,并没有发生明显的移动。通过谱图对比研究,分析了光子禁带的叠加效应。
- 严鸿维张林朱方华李波尹强
- 关键词：光子晶体光学制造透射谱蛋白石
- 基于弱相干干涉光谱成像系统的光学元件缺陷检测方法
- 本发明公开了一种基于弱相干干涉光谱成像系统的光学元件缺陷检测方法，按照以下步骤进行：S1、使用弱相干干涉光谱成像装置采集光学元件的原始干涉光谱信号；S2、得到空间强度结构图像；S3、根据空间强度结构图像，得到强度结构投影...
- 姚霖黄进刘太祥李昌朋杨科严鸿维黄林
- 一种精确测定单层化学膜折射率变化值的装置及方法
- 本发明涉及一种精确测定单层化学膜折射率变化值的装置及方法，属于高功率激光技术领域，该装置包括脉冲激光器、第一光电管、取样镜、石英棱镜、单层化学膜和第二光电管，所述石英棱镜为等边三棱镜，所述单层化学膜涂覆在石英棱镜的一个面...
- 王方郑天然李强高波严鸿维晏良宏胡东霞周丽丹朱启华
- 文献传递
- 含POSS聚芴亚胺酮的合成、表征与性能研究被引量：1
- 2012年
- 以9,9-双(4-氨基苯基)芴、4,4'-二溴二苯甲酮及八氨基苯基笼型聚倍半硅氧烷(POSS)为反应单体,通过Buchwald-Hartwig交叉偶联反应,制得了一系列不同POSS含量的POSS基聚芴亚胺酮(PIKF)。通过红外、核磁共振、电子能谱、X射线衍射等对其结构进行了表征,采用热失重分析、紫外/可见光谱及荧光光谱测试了其性能。结果表明,随着POSS含量的提高,聚合物的起始热分解温度逐步升高(从497.62℃升高到508℃和541.61℃);POSS的引入可有效降低聚集现象的发生,从而使其最大吸收波长红移(从385 nm移至412 nm);而非共轭大体积POSS基的引入打断了链内共轭,使聚合物的最大发射波长蓝移(从518 nm至490 nm)。
- 胡红菊徐艺常冠军严鸿维张林
- 提拉法SiO_2化学膜厚度与折射率的变化规律研究被引量：3
- 2014年
- 采用提拉法在硅基底上制备了多孔溶胶凝胶SiO2膜,用椭偏法测量薄膜的厚度与折射率,考察了提拉速度和胶体浓度对膜层厚度与折射率的影响。对厚度与提拉速度的关系进行线性与幂函数拟合,并比较分析两种拟合的关系及其对工艺流程的作用。比较了不同浓度胶体所得到的同一厚度薄膜的折射率变化规律。结果表明:对于同一胶体浓度下薄膜厚度与提拉速度的正相关关系,线性拟合相比幂函数拟合可以更好地解释实验结果的规律性。同时,折射率在一定范围内也会随着提拉速度的增加而减小。镀同一厚度膜时,浓度大的胶体膜层折射率大。通过对提拉速度和胶体浓度的控制可以得到理想的薄膜厚度与折射率。
- 张日东严鸿维吕海兵张尽力晏良宏赵松楠王韬雷洁红
- 关键词：提拉法SIO2膜薄膜厚度折射率
