2025年3月27日
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封松林
作品数:
657
被引量:471
H指数:11
供职机构:
中国科学院上海高等研究院
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发文基金:
国家自然科学基金
国家重点基础研究发展计划
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相关领域:
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合作作者
宋志棠
北京工业大学
刘波
中国科学院研究生院
张挺
中国科学院上海微系统与信息技术...
陈邦明
中国科学院上海微系统与信息技术...
汪辉
中国科学院上海高等研究院
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2008
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2007
33篇
2006
29篇
2005
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657
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无人飞行器入侵拦截方法及装置
本发明提供一种无人飞行器入侵拦截方法及装置,方法包括当通过空域扫描方式在一预设区域监测到无人飞行器入侵时,立刻向频域扫描方式传递入侵信号,频域扫描方式获取预设区域内的无线频谱的变化;根据无线频谱的变化,分析得到无人飞行器...
徐浩煜
韩振奇
周晗
封松林
李明齐
文献传递
CBC模式下的AES加解密装置及方法
本发明公开了一种CBC模式下的AES加解密装置及其方法,该加解密装置包括:输入输出模块,接收上层的输入数据和控制信号并向上层发送处理好的数据和控制信号;反馈及累加模块,根据控制信号完成对输入和输出数据的反馈和累加;AES...
王凡琦
庄健敏
张钊锋
封松林
文献传递
三维互补金属氧化物半导体晶体管结构及其制备方法
本发明提供一种高速三维互补金属氧化物半导体晶体管(CMOS)的结构及其制备方法,其特征在于pMOS制备在大面积高质量单晶硅(110)面上,nMOS制备在大面积高质量单晶硅(100)面上,且pMOS和nMOS分开在不同层上...
刘卫丽
宋志棠
陈邦明
封松林
文献传递
Ge‑Se‑Al OTS材料、OTS选通器单元及其制备方法
本发明提供一种Ge‑Se‑Al OTS材料、OTS选通器单元及其制备方法,其中,该Ge‑Se‑Al OTS材料的化学通式为Ge<Sub>x</Sub>Se<Sub>y</Sub>Al<Sub>100‑x‑y</Sub>,...
刘广宇
宋志棠
吴良才
封松林
相变材料GeTe的耦合等离子体刻蚀方法
本发明提供一种相变材料GeTe的耦合等离子体刻蚀方法,包括步骤:1)于衬底上制备GeTe材料薄膜层;2)于所述GeTe材料薄膜层上形成刻蚀阻挡层,并图形化所述刻蚀阻挡层;3)将GeTe材料薄膜层送入具有BCl<Sub>3...
夏洋洋
刘波
王青
张中华
宋三年
宋志棠
封松林
文献传递
制备纳米晶电阻转换材料的方法
本发明揭示了一种制备纳米晶电阻转换材料和单元的方法,包括如下步骤:首先沉积超薄的电阻转换存储材料薄膜,随后通过退火在基底上形成均匀的纳米晶,再者通过功能材料的沉积形成对纳米晶的包覆;重复上述三步,形成具有功能材料包覆的均...
张挺
宋志棠
刘波
吴关平
张超
封松林
陈邦明
一种含锗锑硒的多级电阻转换存储材料及应用
本发明涉及一种含锗锑硒的多级电阻转换存储材料及应用,其组分包括锗、锑、硒三种元素,其中锗、锑、硒三种元素的原子百分比依次为0.01~20∶70~99.9∶0.01~15;该材料可应用于电编程的电阻转换存储器等领域的制备;...
顾怡峰
宋志棠
张挺
刘波
封松林
文献传递
提升相变存储器编程速度的方法及实现方法
本发明是一种提升相变存储器编程速度的方法及实现方法。其特征在于在存储器编程空闲时间对无数据或未存储数据部分的存储单元或者存储单元块进行全局性的SET编程操作;所述的空闲时间为存储器单元处于待机状态,没有编程的任务状态;所...
张挺
宋志棠
丁晟
刘波
封松林
陈邦明
文献传递
GeSi/Si应变超晶格退火及离子注入研究
1997年
用深能级瞬态谱(DLTS)研究退火及离子注入对分子束外延生长的GeSi/Si应变超晶格性质的影响,观察到3个与位错有关的深中心和1个表层内的深中心,退火和离子注入都使得这些深中心的浓度增加数倍,说明GeSi/Si应变超晶格不适应做过多的热处理.同时测定Pd+注入在GeSi/Si超晶格的杂质能级为EC=0.28eV,与体Si中的Pd杂质能级一致.
肖剑飞
封松林
彭长四
关键词:
GESI/SI
应变超晶格
退火
离子注入
GeSi/Si应变结构内应力纵向分布
1997年
利用深能级瞬态谱(DLTS)研究分子束外延n-Ge0.2Si0.8/Si应变超晶格,观察到两个与位错有关的深中心,其中一个能级位置在EC=0.42eV,另一个随着偏压变化而发生明显的移动,深能级位置从EC=0.21eV变化到EC=0.276eV,我们认为是内应力引起的.取该深能级的流体静压力系数γ=6.59meV/Kba,求出超晶格中的应力分布与计算值符合较好.在此基础上提出了一种通过测量深能级随应力移动效应来确定应变结构内应力纵向分布的新方法.
肖剑飞
封松林
彭长四
关键词:
GESI/SI
应变超晶格
内应力
深能级瞬态谱
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