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一种基于光腔衰荡技术同时测量高反射/高透射光学元件的反射率和透过率的方法: 本发明涉及一种基于光腔衰荡技术同时测量高反射/高透射光学元件的反射率和透过率的方法，步骤为：采用光腔衰荡技术，先测量初始光腔的衰荡信号并拟合得到初始光腔的衰荡时间。然后加入待测高反射/高透射光学元件形成稳定测试光腔，分别...; 李斌成崔浩王静; 文献传递

光反馈光腔衰荡技术理论与应用研究: 目前，反射率高于99.9％的高反光学元件广泛应用于激光陀螺、引力波探测、激光核聚变等激光光学系统，其高反光学元件的反射率直接关系到这些激光光学系统的性能。因此，高反光学元件反射率的准确检测对其产品质量控制和性能提升尤为重...; 崔浩; 关键词：高反射率光反馈半导体激光器

嵌入陶瓷电容器印制电路板的可靠性被引量：1: 2007年; 在最近几年中,无源嵌入式器件技术的发展成了OEM厂商,板材制造商和材料供应商所共同关注的事情。移动电话等不断追求小型化便携式的器件的需求,首先带动了这种技术的发展,通过无源嵌入式器件的优势也渐渐被大家所认识。DuPont专注于无源嵌入式器件在应用于有机衬底的电阻和电容材料领域取得了很大的成就。产品的家族包括了广泛的领域,即陶瓷、厚膜聚合物和用于贴装用的嵌入式器件的浆料,为了满足平面电容的要求而填充和非填充有机电解质的电容器。此前研究的文章描述了涉及到标准厚膜和在印制板上嵌入无源厚膜陶瓷电容器的印制电路板制程的技术发展。而这篇文章将重点放在嵌入式厚膜陶瓷电容器的可靠性上。; 张晓杰何为崔浩何波张宣东徐景浩关健; 关键词：陶瓷电容器可靠性

在挠性印制板中埋嵌无源和有源元件被引量：1: 2007年; 文章介绍了在挠性印制板中埋嵌无源和有源元件的方法。通过化学镀Ni(P)电阻可以实现薄膜电阻的埋嵌,并能保证一定的弯折性。通过对芯片进行背面减薄和倒装连接,可以实现有源芯片的埋嵌。随后还对埋嵌元件的可靠性进行了测试。; 崔浩何为张宣东徐景浩何波; 关键词：倒装芯片

一种碳化硅晶棒多型缺陷的快速无损检测方法: 本发明公开了一种碳化硅晶棒多型缺陷的快速无损检测方法，运用瓦级功率连续激光照射碳化硅晶棒表面靠近边缘的位置，在碳化硅晶棒侧面一定深度位置采用高灵敏光电探测器探测照射激光束穿过碳化硅晶棒的光强，绕中心轴旋转碳化硅晶棒，测量...; 李斌成吕世佳崔浩

一种基于腔长改变的光腔衰荡气体消光系数测量方法: 本发明公开了一种基于腔长改变的光腔衰荡气体消光系数测量方法，它包括以下步骤：S1、入射激光束从平面高反镜透射后垂直入射到第一块平凹高反镜上，然后被平面高反镜再次反射，反射光垂直入射到第二块平凹高反镜上并被原路反射回平面反...; 李斌成崔浩王静高椿明王亚非; 文献传递

一种同时测量高反射/高透射光学元件的反射率、透过率、散射损耗和吸收损耗的方法: 本发明涉及一种同时测量高反射/高透射光学元件的反射、透过、散射和吸收的方法，该方法基于光腔衰荡技术，先测量初始光学谐振腔的衰荡时间τ<Sub>0</Sub>，然后加入待测高反射/高透射光学元件，测量测试光学谐振腔的衰荡时...; 李斌成崔浩王静高椿明; 文献传递

COF(Chip on Film)30μm/30μm精细线路的研制被引量：5: 2008年; 近年来,随着驱动IC的I/O数量日益增多,芯片I/O端的排列密度也越来越大。为了与间距日益精细的芯片I/O端相适应,COF基板的线宽/间距已经普遍降到50μm以下,尤其是某些内部引线键合(ILB)端,其线宽/间距已经减小到15μm。由于传统的减成法存在不可避免的侧蚀问题,所以用它来制作如此精细的线路存在一定难度。但是使用半加成法就能很大程度的抑制侧蚀现象,它更适合于制作非常精细的线路。文章中,介绍以铜箔厚度仅有2μm的溅射型挠性覆铜板为原材料,采用半加成法制作了最小线宽/间距分别为50μm/50μm和30μm/30μm的精细线路基板。在半加成法的差分蚀刻工艺中,选用硫酸/双氧水蚀刻液来蚀刻去除基材铜,而不是选用常用的盐酸/氯化铜蚀刻液。结果表明,半加成法具有很好的蚀刻性能,其制作出的线路横截面非常接近矩形。即使基板的线宽/间距由50μm/50μm下降到30μm/30μm,线路的横截面依然非常理想,并没有出现向梯形变化的趋势。同时,由于半加成法所需的蚀刻时间非常短,它能很好的保持线宽,使其与设计尺寸一致。; 何波崔浩何为莫云绮张宣东徐景浩关健; 关键词：COF

手机用COF制造工艺关键技术研究: 随着电子、通讯产业的蓬勃发展,液晶显示器的需求与日剧增,大尺寸如液晶显示器、液晶电视,中小尺寸如手机、数码相机等。这些产品都是以轻薄短小为发展趋势的,这就要求必需有高密度,小体积,能弯曲安装的新一代封装技术来满足以上需求...; 崔浩; 关键词：封装形式液晶显示器手机产业; 文献传递

一种基于光腔衰荡技术同时测量高反射/高透射光学元件的反射率和透过率的方法: 本发明涉及一种基于光腔衰荡技术同时测量高反射/高透射光学元件的反射率和透过率的方法，步骤为：采用光腔衰荡技术，先测量初始光腔的衰荡信号并拟合得到初始光腔的衰荡时间。然后加入待测高反射/高透射光学元件形成稳定测试光腔，分别...; 李斌成崔浩王静

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崔浩