陈韬文
- 作品数：5 被引量：5H指数：1
- 供职机构：中国卫星海上测控部更多>>
- 相关领域：化学工程电子电信一般工业技术电气工程更多>>
- ATO半导体颜料在伪装涂料中的应用研究被引量：4
- 2010年
- 以SnCl4、SbC13、NaOH等为原料,采用共沉淀法制备ATO半导体颜料,采用XRD、SEM、EDS对颜料结构、成分、形貌进行表征,比较了ATO半导体颜料与常见的单组分颜料涂层红外发射率大小。通过颜色混合规律将ATO半导体颜料与着色颜料混合制备了绿色伪装涂料,制备的涂层具有较低的红外发射率,并且其光谱反射曲线满足美军标的光谱通道要求,具有较好的应用前景。
- 孙国亮陈韬文郑文伟
- 关键词：共沉淀法红外发射率光谱反射率伪装涂料
- 球磨时间对片状铁磁性吸收剂吸波性能的影响
- 2009年
- 通过电镀法制备片状铁磁性吸收剂,用SEM、XRD等手段对其进行表征。用网络分析仪测试了不同球磨时间下吸收剂样品在2～18 GHz的电磁参数,并结合晶粒尺寸因素研究了球磨时间对吸收剂电磁参数的影响,对比了不同球磨时间下吸收剂样品的SEM照片。结果表明:随着球磨时间的增加,片状吸收剂的晶粒尺寸减小,厚度变薄,低频磁导率有所上升,进而能够提高其低频吸波性能。
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- 关键词：电镀铁电磁参数
- CdZnS半导体颜料涂层红外发射率的研究被引量：1
- 2010年
- 以Cd(CH_3COO)_2,Zn(CH_3COO)_2,Na_2S等为原料,通过共沉淀法制备CdZnS半导体颜料,用XRD,EDS,SEM等手段对颜料结构、成分、形貌进行了表征。研究了烧结温度和掺杂含量对CdZnS半导体颜料涂层红外发射率的影响。结果表明,烧结温度和掺杂含量对半导体颜料涂层光学性能有决定性作用,通过调配工艺条件可以获得较低的颜料涂层红外发射率。
- 孙国亮郑文伟陈韬文
- 关键词：共沉淀法红外发射率
- CdZnS半导体颜料的制备与表征
- 2010年
- 以Cd(AC)2、Zn(AC)2、Na2S等为原料,采用共沉淀法制备CdZnS半导体颜料,详细讨论了反应温度、反应液pH值、保温熟化时间等共沉淀反应参数对CdZnS半导体颜料合成的影响,确定了CdZnS半导体颜料合成的最佳反应参数。最后采用XRD、EDS、SEM等手段对颜料结构、成分、形貌进行表征,测试了CdZnS半导体颜料的粉体电阻率。
- 孙国亮郑文伟陈韬文
- 关键词：共沉淀法
- ATO半导体颜料的制备与表征
- 2009年
- 采用共沉淀法合成了ATO半导体颜料的前驱体,详细讨论了反应温度、反应液pH值、滴加速度、保温熟化时间等共沉淀反应参数对前驱体合成的影响,确定了ATO半导体颜料前驱体合成的最佳反应参数。前驱体通过烧结转化为半导体颜料,最后对烧结获得的ATO半导体颜料进行了表征。
- 孙国亮陈韬文郑文伟
- 关键词：共沉淀法ATO
