赤井智子
- 作品数：1 被引量：7H指数：1
- 供职机构：日本产业技术综合研究所更多>>
- 发文基金：上海市科委纳米专项基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学机械工程更多>>
- 掺铒高硅氧玻璃光谱性质的研究被引量：7
- 2006年
- 应用Judd-Oflet理论计算了新型掺铒高硅氧玻璃中铒离子的强度参量Ωt(t=2,4,6),Ω2=8·15×10-20,Ω4=1·43×10-20,Ω6=1·22×10-20,相比于其他氧化物玻璃,表现出较大的Ω2,6值,反映了铒离子周围的近邻结构不对称性和Er-O键的离子键成分较高.利用McCumber理论计算得到了能级4I13/2→4I15/2跃迁的受激发射截面为σc=0·51pm2.这种高硅氧玻璃掺铒离子浓度尽管高于石英光纤的掺杂浓度10倍左右,其荧光寿命和量子效率仍达到6·0ms和66·0%,有可能成为新的光学放大和微片激光材料.
- 达宁杨旅云彭明营孟宪庚周秦岭陈丹平赤井智子角野广平
- 关键词：JUDD-OFELT理论量子效率
