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尹立国

作品数：4 被引量：0H指数：0
供职机构：天津理工大学更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇中文专利

主题

  • 4篇电路
  • 4篇电路工艺
  • 4篇抛光速率
  • 4篇集成电路
  • 4篇集成电路工艺
  • 2篇氧化钒
  • 2篇氧化钒薄膜
  • 2篇氧化铈
  • 2篇抛光
  • 2篇抛光液
  • 2篇平坦化
  • 2篇氢氧化
  • 2篇氢氧化铵
  • 2篇化学机械抛光
  • 2篇化学机械平坦...
  • 2篇机械抛光
  • 1篇氧化镍薄膜
  • 1篇氧化钛薄膜

机构

  • 4篇天津理工大学

作者

  • 4篇王芳
  • 4篇张楷亮
  • 4篇尹立国
  • 2篇张涛峰
  • 2篇苗银萍
  • 2篇韦晓莹
  • 1篇任君
  • 1篇胡智翔
  • 1篇王兰兰
  • 1篇张扬
  • 1篇朱宇清
  • 1篇李福龙

年份

  • 1篇2013
  • 2篇2012
  • 1篇2011
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
一种用于氧化钒化学机械抛光的纳米抛光液及其应用
一种用于氧化钒化学机械抛光的纳米抛光液，由纳米研磨料、pH调节剂、表面活性剂、消泡剂、杀菌剂、助清洗剂和溶剂组成，纳米研磨料为氧化锆、氧化钛、氧化钸或二氧化硅，pH调节剂包括无机碱为KOH和有机碱四甲基氢氧化铵、四乙基氢...
张楷亮尹立国王芳韦晓莹苗银萍
文献传递
一种用于氧化钒化学机械抛光的纳米抛光液及其应用
一种用于氧化钒化学机械抛光的纳米抛光液，由纳米研磨料、pH调节剂、表面活性剂、消泡剂、杀菌剂、助清洗剂和溶剂组成，纳米研磨料为氧化锆、氧化钛、氧化钸或二氧化硅，pH调节剂包括无机碱为KOH和有机碱四甲基氢氧化铵、四乙基氢...
张楷亮尹立国王芳韦晓莹苗银萍
一种用于氧化钛薄膜化学机械平坦化的纳米抛光液及应用
一种用于氧化钛薄膜化学机械平坦化的纳米抛光液，由纳米研磨料、pH调节剂、表面活性剂、消泡剂、杀菌剂、助清洗剂和溶剂混合组成，其中纳米研磨料为氧化铈或二氧化硅，pH调节剂由无机pH调节剂和有机pH调节剂组成复合pH调节剂，...
张楷亮张涛峰王芳任君尹立国王兰兰朱宇清
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一种用于氧化镍薄膜化学机械平坦化的纳米抛光液及应用
一种用于氧化镍薄膜化学机械平坦化的纳米抛光液，由纳米研磨料、pH调节剂、表面活性剂、消泡剂、杀菌剂、助清洗剂和溶剂混合组成，纳米研磨料为氧化铈或二氧化硅，pH调节剂由无机pH调节剂和有机pH调节剂组成复合pH调节剂，表面...
张楷亮张涛峰王芳尹立国张扬李福龙胡智翔
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