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张家慰

作品数:3 被引量:1H指数:1
供职机构:东南大学电子科学与工程学院更多>>
相关领域:电子电信自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 1篇电路
  • 1篇压力传感器
  • 1篇压阻
  • 1篇压阻式
  • 1篇偏压
  • 1篇热氮化
  • 1篇重掺杂
  • 1篇力传感器
  • 1篇力敏传感器
  • 1篇抗辐射
  • 1篇赖和
  • 1篇集成电路
  • 1篇键合
  • 1篇键合工艺
  • 1篇各向异性
  • 1篇各向异性腐蚀
  • 1篇硅膜
  • 1篇二氧化硅膜
  • 1篇感器
  • 1篇SIO

机构

  • 3篇东南大学

作者

  • 3篇张家慰
  • 2篇林海安
  • 1篇陈健
  • 1篇陈健

传媒

  • 2篇应用科学学报
  • 1篇传感技术学报

年份

  • 1篇1993
  • 1篇1992
  • 1篇1989
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
新型SOG压阻式力敏传感器的研制
1993年
本文介绍一种以玻璃作绝缘介质膜的SOG压力传感器,探讨了实现SOG材料良好键合的关键工艺,研究了以腐蚀自致停技术为核心的减薄成膜方法.结果表明,SOG传感器在高温、大压力方面颇具潜力.
林海安张家慰陈健黄明程
关键词:压力传感器键合工艺
热氮化SiO_2膜的抗辐射特性
1989年
离子注入、电子束和离子束曝光以及电子束蒸发等技术已用于超大规模集成电路生产中.但是,这些新工艺引入了高能粒子辐射,给MOS集成电路的概介质带来了新的缺陷.因此,寻找抗辐射的栅介质是令人感兴趣的课题.近来,Ito等人提出,将SiO_2膜在无水氨气中加热处理一定时间,能直接转变为氮氧化硅,称为热氨化二氧化硅.它与热生长的SiO_2膜相比,具有较高的击穿电场强度和介电常数,较好的抗氧化能力和抗沾污性能.但是,对热氮化SiO_2膜的抗辐射特性的研究报道不多.仅Naiman等人作了一些研究.在他们的实验中,把10nm厚的热氮化SiO_2膜与50nm厚的SiO_2膜作了比较,这不能说明前者的抗辐射特性比后者的好.
商陆民张家慰简耀光
关键词:二氧化硅膜热氮化集成电路MOS
硅各向异性腐蚀对偏压依赖和重掺杂停蚀机理的新模型被引量:1
1992年
系统研究了硅各向异性腐蚀对偏压的依赖及重掺杂的影响,建立了液一半接触能带模型和界面电荷传递模型,提出了反应注入概念且指出腐蚀速度通常依赖于界面态的填充情况,合理解释了实验得到的蚀速-偏压关系.考虑到非平衡载流子复合后,得到与实验吻合的蚀速比-载流子浓度公式.
林海安张家慰陈健
关键词:各向异性偏压重掺杂
共1页<1>
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