您的位置: 专家智库 > >

秦艳

作品数:13 被引量:18H指数:3
供职机构:大连海事大学更多>>
发文基金:国家教育部博士点基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:金属学及工艺语言文字一般工业技术更多>>

文献类型

  • 6篇期刊文章
  • 3篇专利
  • 2篇学位论文
  • 2篇会议论文

领域

  • 9篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇语言文字

主题

  • 8篇常压
  • 6篇等离子体
  • 6篇渗氮
  • 6篇平衡等离子体
  • 6篇金属
  • 6篇非平衡等离子...
  • 5篇金属表面
  • 4篇常压等离子体
  • 3篇等离子
  • 3篇等离子体渗氮
  • 3篇电压
  • 3篇体表面
  • 3篇阻挡放电
  • 3篇介质
  • 3篇介质阻挡
  • 3篇介质阻挡放电
  • 3篇金属表面强化
  • 2篇针状
  • 2篇脉冲电压
  • 2篇脉冲电源

机构

  • 13篇大连海事大学

作者

  • 13篇秦艳
  • 11篇严立
  • 11篇朱新河
  • 7篇徐久军
  • 5篇杨毅
  • 4篇金华
  • 4篇高玉周
  • 3篇严志军
  • 2篇黄岩
  • 2篇白敏冬
  • 2篇史雅琴
  • 1篇谢景峰
  • 1篇张会臣
  • 1篇许彬
  • 1篇齐育红

传媒

  • 2篇大连海事大学...
  • 1篇金属热处理
  • 1篇材料保护
  • 1篇中国表面工程
  • 1篇鞍钢技术
  • 1篇第四届全国表...

年份

  • 1篇2011
  • 1篇2004
  • 3篇2002
  • 5篇2001
  • 3篇2000
13 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
常压非平衡等离子体表面渗扩技术应用基础研究
本文提出了常压非平衡等离子体渗扩技术的概念,说明了常压等离子体渗扩技术的原理和特点,并设计了一套常压非平衡等离子渗扩技术的实验装置,在此基础上采用介质阻挡放电进行了理论分析和实验研究。论文给出了理论分析和实验研究的结果。
严立朱新河秦艳徐久军杨毅
关键词:常压等离子体金属表面改性
文献传递
常压介质阻挡放电非平衡等离子体渗氮研究被引量:1
2000年
利用介质阻挡放电 ,在自行研制的设备上进行常压非平衡等离子体渗氮的研究。研究表明 ,该新工艺不仅在很短时间内在试样表面得到很深的渗层和白亮层 ,而且省去了真空放电下必须的真空设备 ,整个工艺过程操作简便 ,是一种很有发展前景的新工艺。
秦艳严立朱新河
关键词:等离子体渗氮介质阻挡放电表面改性
常压介质阻挡放电非平衡等离子体渗氮工艺的优化被引量:1
2002年
利用介质阻挡放电,在常压下进行非平衡等离子体渗氮通过正交试验研究渗氮工艺参数的作用,分析渗氮膜层的相结构及其显微组织,确定常压下较为理想的渗氮工艺参数.试验结果表明,新工艺能在较短时间内获得较高的表面硬度与理想的扩散层;整个工艺过程操作简便,省去了真空放电下必需的真空设备,是一种极具发展前景的新型渗氮工艺.
杨毅高玉周严立秦艳史雅琴朱新河张会臣
关键词:正交试验非平衡等离子体渗氮表面改性
金属表面强化用的常压非平衡离子渗扩炉
材料表面工程领域中金属表面强化用的常压非平衡离子渗扩炉,由炉盖(22),炉底板(16),炉体(7)和设在其内的加热体(20)、隔热屏(19)、工件平台(17)所构成,特征:炉体内设有吊挂在炉盖上并带有多个针状凸起物(30...
严立朱新河徐久军秦艳金华严志军齐育红许彬高玉周
文献传递
常压介质阻挡放电非平衡等离子体渗氮被引量:4
2001年
利用介质阻挡放电 ,在自行研制的设备上进行常压非平衡等离子体渗氮 .研究表明 ,该新工艺不仅在很短时间内在试样表面得到很深的渗层和白亮层 ,而且省去了真空放电下必须的真空设备 ,整个工艺过程操作简便 ,是一种很有发展前景的新工艺 .此外 ,还分析了渗层深度及硬度随放电间隙不同的变化规律 .
秦艳严立朱新河
关键词:金属热处理常压等离子体渗氮
一种金属表面强化用的常压非平衡等离子体设备与工艺
材料表面工程领域的一种金属表面强化用的常压非平衡等离子体设备与工艺,设备包括炉体和供气,排气,加热,测控,冷却及供电系统(6),特征是,炉体设有带有针状凸起物(30)的吊挂阳极(21),采用的电源为超高压脉冲电源,工艺是...
严立朱新河徐久军金华秦艳严志军黄岩白敏冬
文献传递
常压非平衡等离子体表面渗扩技术应用基础研究
本文提出了常压非平衡等离子体渗扩技术的概念,说明了常压等离子体渗扩技术的原理和特点,并设计了一套常压非平衡等离子渗扩技术的实验装置,在此基础上采用介质阻挡放电进行了理论分析和实验研究.论文给出了理论分析和实验研究的结果.
严立朱新河秦艳徐久军杨毅
关键词:常压等离子体金属表面改性介质阻挡放电
文献传递
常压等离子体渗氮主要工艺参数分析被引量:2
2002年
利用介质阻挡放电 ,进行了常压非平衡等离子体渗氮 ,着重讨论了有关工艺参数的影响情况。正交试验结果表明 ,合理选择放电电压、放电间距和渗氮温度是获得良好渗氮层的关键。在本工艺条件下 ,适当减小放电间隙 ,增大电场强度 。
严立朱新河徐久军秦艳杨毅高玉周
关键词:工艺参数放电电压渗氮温度渗层介质阻挡放电
常压等离子体渗氮工艺的研究被引量:7
2002年
利用介质阻挡放电原理 ,在自行研制的设备上进行了常压非平衡等离子体渗氮。研究表明 ,在等离子环境中 ,试样表面能迅速获得很深的渗层和白亮层 ,而电场外试样几乎无渗层。说明电场内气体电离率高 ,活性粒子浓度高。整个工艺过程操作简便 ,是一种很有发展前景的新工艺。
秦艳严立朱新河史雅琴许久军高玉周杨毅
关键词:等离子体渗氮常压
常压非平衡等离子体渗氮研究
秦艳
关键词:等离子体渗氮
共2页<12>
聚类工具0