严乐
- 作品数：14 被引量：33H指数：3
- 供职机构：北京信息科技大学机电工程学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划国家重点基础研究发展计划更多>>
- 相关领域：机械工程电子电信文化科学语言文字更多>>
- 高精度压印机热误差补偿中温度变量的辨识被引量：6
- 2006年
- 为了提高压印机在压印光刻工艺中的套刻对准精度,提出了采用因子分析方法来选取压印机热误差模型中的温度变量,根据变量之间的相关性分组后,再根据各变量与热误差之间的相关性在每一组中选取一个代表变量,最终将压印机上布置的温度传感器从15个减少到3个.在压印机温度测量关键点处建立了温度与模具在x、z方向热误差关系的数学模型,模型的热误差预测精度达到了98%以上.实验结果表明,该方法不仅保证了模型的精度,而且大大地减少了模型的计算时间,是一种在压印机热误差建模中选择温度测量关键点的有效方法.它不仅避免了热误差建模过程中的变量耦合问题,而且提高了模型的精确性,经过补偿,压印机的热误差在x、z方向都减小到200 nm以内.
- 严乐刘红忠卢秉恒丁玉成
- 关键词：压印光刻热误差补偿
- 高精度压印机压印轴的热误差分析
- 2004年
- 在压印光刻工艺中,针对压印机由于温度变化而引起的热误差,通过建立压印机压印轴有限元分析模型,对其温度分布进行了仿真计算.采用高斯求积法优化了温度传感器的位置和数量,选取了1个热源点和2个高斯点作为测温关键点,建立了压印轴测温点的温度变化与压印轴轴向热误差之间的线性计算模型,该方法可以预先确定测温点的数量和位置,避免了传统的从多个测温点中通过实验选择最优传感器数量和位置的方法.研究结果表明,有限元计算结果与实验中温度测量值之间的误差小于7 7%,仿真结果能准确反映压印轴温度场的分布情况,所建立的压印轴热误差模型的计算精度可以达到93%,因此获得了较高的计算精度.
- 严乐卢秉恒丁玉成刘红忠
- 关键词：压印光刻热误差温度场有限元
- 高精度步进压印机热误差的建模分析被引量：2
- 2005年
- 为了消除由紫外光曝光所引起的步进压印机的热误差,以提高压印机的套刻对准精度,运用逐步回归分析法选取了压印机上温度测量点的数量,将压印机上布置的温度传感器从15 个减少到6 个,并建立了压印机温度测量关键点处的温度与压头在x、z方向热误差关系的数学模型.实验结果与模型计算结果的对比分析表明,模型的热误差预测精度在x方向可以达到89%,而在z方向可以达到93%.应用表明,该方法是一种在压印机热误差建模中选择温度测量关键点的有效方法,可避免热误差建模过程中的变量耦合问题,从而提高了模型的精确性.
- 严乐卢秉恒丁玉成刘红忠
- 关键词：热误差温度场
- 工程制图教学中学生学习策略的传授与培养
- 1999年
- 学会学习是高等学校教育的一项面向未来、提高学生素质的战略任务，由于学生在学习和解决问题时所采取的策略不同，其效果也不相同，因而，学习策略在学习和解决问题的过程中起着关键作用。
- 严乐杨胜强
- 关键词：传授
- 高保真度五步加载纳米压印光刻的研究被引量：2
- 2005年
- 从理论上建立了压印光刻工艺中留膜厚度与压印力的关系,为压印预设曲线的建立提供了理论依据.基于液态光敏抗蚀剂在紫外光照射下发生光固化反应这一特性,对固化过程进行了详细的分析,建立了抗蚀剂的固化深度与紫外光曝光量之间的关系.在分析了现有压印工艺存在的问题后,提出了一个全新的压印工艺:高保真度固化压印,即包括特征转移-抗蚀剂减薄-脱模回弹力释放-保压光固化-脱模等压印过程.实验结果表明,高保真度固化压印过程与加载路线能实现复杂图形特征的复制,从而保证了压印图形的保真度,并可保证图形复制的一致性及适度留膜厚度,压印图形的分辨率可达100 nm.
- 严乐刘红忠丁玉成卢秉恒
- 关键词：压印光刻加载抗蚀剂高保真度
- 微压印光刻中的系统误差分析研究
- 严乐
- 关键词：微电子技术电子束光刻误差分析误差补偿
- 校园公共空间模型
- 2011年
- 分析了公共空间的特性以及发展创造力的环境因素,提出公共空间可以作为发展创造力的平台,为此公共空间需要三个核心要素:通道、信息和服务,详细讨论了三个要素的组成,提出了公共空间模型。
- 侯悦民严乐高宏
- 关键词：创造力公共空间
- 超高精度定位系统及线性补偿研究被引量：13
- 2003年
- 依据一个带有宏定位和微定位的超高精度定位系统设计 ,应用弹性力学理论进行精定位台的静、动参数的分析和估算 ,确定了系统的自然频率 ,并由此设计出双伺服环的控制系统 .控制系统由 2根循环滚珠丝杠构成宏定位 ,3个压电驱动器构成微定位 .在系统软件中 ,采用Chebyshev数字滤波器进行去噪 ,使整个定位系统控制在 2 0 0mm的行程中 ,其定位精度达到了 8nm .对于由压电驱动器 (PZT)的迟滞和非线性特性而产生的系统重复运动误差 ,系统采用EMM (ExactModelMatching)控制策略 ,最终实现正向和反向运行的误差量比补偿前降低 5倍以上 ,使得正反向运动几乎落在同一曲线内 。
- 刘红忠卢秉恒丁玉成李寒松严乐
- 关键词：弹性力学集成电路
- 高保真度压印光刻图形质量研究
- 2012年
- 为提高纳米压印工艺的图形质量,在抗蚀剂涂铺之前,对硅基材料进行氧离子轰击表面改性,有效增强硅基材料对抗蚀剂的亲和性;采用PDMS软模具,脱模性能好,而且能够很好的清除图型母版和自身表面的杂质;利用高保真度加载工艺,图型横向和纵向复型误差小于14 nm;运用多元回归方法建立了所选温度测点的温度值与模具中心z向热误差之间的关系模型,并对热误差进行了补偿。实验结果表明,压印光刻工艺实现了图型特征的高保真度复制。
- 严乐卢秉恒
- 关键词：压印光刻高保真度热误差
- 冷压印光刻工艺精密定位工作台的研制被引量：7
- 2004年
- 冷压印光刻工艺是一种将模板图形翻制到硅片上的技术。为了获得高分辨率压印图形 ,为压印光刻机设计了一个精密定位工作台。精密定位工作台是压印光刻机的关键部件 ,它既能够保证模板 -抗蚀剂 -硅片结构间的接触均匀一致 ,并实现模板与承片台间的三个运动自由度 ,即沿 z轴的直线运动和绕 x、y轴的旋转运动 (α和β) ,又可以实现步进对准所需要的沿x、y轴的直线运动和绕 z轴的旋转运动 ( θ)。设计中采用了柔性机械结构 ,消除了使用铰链连接所引起的间隙与摩擦等问题。压印实验结果显示定位系统在 2 0 0 mm的行程中 ,精密定位工作台定位精度达到 8nm以内。实现了压印光刻工艺在集成电路制造中的高精度定位要求。
- 严乐卢秉恒丁玉成刘红忠李寒松
- 关键词：压印光刻精密定位工作台
