桑利军
- 作品数:57 被引量:55H指数:5
- 供职机构:北京印刷学院更多>>
- 发文基金:国家自然科学基金北京市自然科学基金北京市教育委员会科技发展计划面上项目更多>>
- 相关领域:一般工业技术理学金属学及工艺电子电信更多>>
- 自组装单分子膜为钝化层实现选择性原子层沉积氧化锌的研究
- 本文报道了在SiO2基底上部分自组装一层致密的十八烷基三氯硅烷单分子膜(OTS-SAMs)作为钝化层实现选择性原子层沉积氧化锌.为了制备致密结构的十八烷基三氯硅烷单分子膜,研究了自组装条件对单分子膜致密性的影响.采用AF...
- 孔得霖张龙王册明桑利军杨丽珍
- 关键词:自组装氧化锌
- 功能软包装材料设计原理与应用技术研究
- 许文才陈强李东立付亚波曹国荣许卫红李启华陈作涛李海军贾子乐桑利军杨丽珍王茹刘婧魏华
- 该成果属于材料科学/复合材料学科,主要应用于食品包装领域。设计生产了低溶剂残留、高阻隔性、高透气性原料单膜和系列功能(智能)包装材料,延长啤酒、果汁等氧敏性食物和水果、蔬菜的货架期。主要技术内容包括:①发现降低聚乙烯、聚...
- 关键词:
- 关键词:食品包装
- 原子层沉积铝薄膜的研究
- 2013年
- 为了对原子层沉积金属薄膜进行研究,以三甲基铝为前驱体、氢气为还原剂,在微波电子回旋共振等离子体辅助原子层沉积装置中进行了铝薄膜的沉积。通过实验确定了三甲基铝和和H2进行饱和反应的参数。采用X射线衍射仪、原子力显微镜及四探针电阻仪对薄膜的结构和性能进行了测试。结果表明:用等离子体辅助原子层沉积技术可以成功制备金属铝薄膜,沉积速率和表面形貌受基底温度的影响,薄膜在H2氛围下退火处理后晶体结构可以得到有效改善,铝薄膜的表面电阻也有明显降低。
- 赵桥桥桑利军陈强
- 关键词:原子层沉积退火表面电阻
- 有机硅单体离化掺杂制备硅铝二元氧化物薄膜
- 为了满足薄膜太阳能电池、柔性显示器件对高性能阻隔薄膜的需求,采用离子辅助电子束双源共蒸发镀膜的方法获得硅铝二元氧化物镀膜。在蒸发镀膜的过程中,将六甲基二硅氧烷或八甲基环四硅氧烷等含硅有机单体按适当比例掺入霍尔离子源的放电...
- 王正铎刘忠伟桑利军陈强
- 文献传递
- 一种高附着力镀铝膜
- 本实用新型公开了一种高附着力镀铝膜,属于柔性包装薄膜材料制备技术领域。一种高附着力镀铝膜,包括镀膜基材和最外层的镀铝层,在镀膜基材和最外层的镀铝层之间有金属缓冲层,金属缓冲层的厚度为5‑50nm,镀铝层的厚度为10‑20...
- 张海宝陈强袁燕王正铎桑利军
- 文献传递
- 环保、绿色高阻隔包装薄膜研发及其产业化
- 针对人们对食品、药品保质期和安全性要求的不断提高,对高阻隔包装材料和高阻隔材料制备技术提出了新的挑战。人们不仅要求高阻隔包装材料环保、无污染、可回收,对包装材料的制备技术也要求环保、技术含量高、节约能源等。基于此我们采用...
- 杨丽珍刘忠伟王正铎桑利军陈强
- 关键词:高阻隔迁移率
- 文献传递
- 一种原子层沉积超薄氧化铝薄膜的装置及方法
- 本发明涉及一种原子层沉积超薄氧化铝薄膜的装置及方法。本发明用双频即微波ECR加射频负偏压设备产生等离子体沉积氧化铝薄膜。用微波ECR加射频负偏压系统使工作气体产生等离子体,以三甲基铝(TMA)为单体,用TMA-Ar-O<...
- 陈强桑利军李兴存
- 基台脉冲负偏压对沉积类金刚石薄膜结构和性能的影响
- 在不同的基台脉冲负偏压下,利用微波-ECR等离子体化学气相沉积技术在单晶硅表面制备了类金刚石薄膜,利用傅立叶变换红外吸收光谱和原子力显微镜对薄膜的结构和形貌进行了表征,最后对薄膜的摩擦系数进行了测试。结果表明:制备的薄膜...
- 桑利军陈强
- 关键词:类金刚石薄膜等离子体化学气相沉积
- 文献传递
- 一种连续生产高附着力镀铝膜的装置及方法
- 本发明公开了一种连续生产高附着力镀铝膜的装置及方法,属于柔性包装基材薄膜技术领域。本发明的装置由放卷辊(1)、张力辊(2)、溅射室(3)、镀膜室(4)、收卷辊(5)以及辅助的水路、电路、气路系统和真空系统构成。本发明的方...
- 张海宝陈强袁燕王正铎桑利军
- 电子回旋共振等离子体辅助脉冲式沉积氧化铝薄膜的研究被引量:7
- 2010年
- 采用自行设计和加工的微波电子回旋共振装置、进气系统和工艺程序,以三甲基铝为前躯体,氧气为氧化剂,HF处理过的单晶硅片为基片,在无任何外加热条件下进行原子层沉积氧化铝薄膜的实验研究。利用X射线衍射、X射线光电子能谱、扫描电子显微镜、原子力显微镜、高分辨率透射电子显微镜等分析手段对薄膜进行了化学成分和微观结构的表征。结果表明,制备的氧化铝薄膜为非晶态结构,薄膜的表面非常光滑平整。薄膜的截面微观结构图像显示,薄膜厚度大约为80nm,界面清晰、按照周期数和层数线形生长规律进行生长。
- 桑利军张跃飞陈强李兴存
- 关键词:电子回旋共振原子层沉积氧化铝