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李庭杰

作品数：2 被引量：0H指数：0
供职机构：西安大略大学更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文专利

主题

  • 2篇掩模
  • 2篇抗蚀剂
  • 2篇光致
  • 2篇光致抗蚀剂
  • 1篇多孔
  • 1篇多孔膜
  • 1篇掩模版
  • 1篇紫外曝光
  • 1篇自支撑
  • 1篇无掩模
  • 1篇模版
  • 1篇孔分布
  • 1篇基底
  • 1篇基底表面

机构

  • 2篇西安大略大学

作者

  • 2篇李庭杰
  • 2篇杨军

年份

  • 1篇2018
  • 1篇2014
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
独立自支撑膜的制造及其在纳米颗粒图案合成中的应用
本专利公开了一种均匀孔径、特定形状以及规则孔分布的独立自支撑多孔膜加工方法，以及其在纳米颗粒图案合成中的应用。本方法包括将光致抗蚀剂层涂覆于基底上表面，首先将其加热相应时间段，然后通过具有预设图案的掩模版使该光致抗蚀剂层...
杨军李庭杰
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独立自支撑膜的制造及其在纳米颗粒图案合成中的应用
本专利公开了一种均匀孔径、特定形状以及规则孔分布的独立自支撑多孔膜加工方法，以及其在纳米颗粒图案合成中的应用。本方法包括将光致抗蚀剂层涂覆于基底上表面，首先将其加热相应时间段，然后通过具有预设图案的掩模版使该光致抗蚀剂层...
杨军李庭杰
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