您的位置： 专家智库 > >

王喜生

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：中国电子科技集团公司第九研究所更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文专利

主题

  • 1篇电路
  • 1篇铁氧体
  • 1篇铁氧体薄膜
  • 1篇抗蚀剂
  • 1篇基底
  • 1篇光刻
  • 1篇薄膜电路

机构

  • 1篇中国电子科技...

作者

  • 1篇倪经
  • 1篇王喜生
  • 1篇周俊
  • 1篇张为国
  • 1篇陈学平

年份

  • 1篇2013
共 1 条 记 录，以下是 1-1
全选 清除 导出
排序方式：
一种铁氧体基底薄膜电路的高效率光刻制作方法
一种铁氧体基底薄膜电路的高效率光刻制作方法，步骤如下：(1)根据预期制备的器件需要选择合适的铁氧体基底材料，并对基底进行金属化、清洗、干燥；(2)将清洗干净的镀有金属膜层的铁氧体基底多次反复涂胶烘焙，使得铁氧体基片上得到...
张为国倪经陈学平李杨兴周俊王喜生曹照亮
文献传递
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0