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周剑平

作品数：11 被引量：19H指数：3
供职机构：中国科学院半导体研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：理学一般工业技术化学工程自动化与计算机技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 9篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 6篇理学
  • 2篇自动化与计算...
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇化学工程

主题

  • 5篇FE-N薄膜
  • 4篇FE
  • 4篇N
  • 3篇溅射
  • 3篇饱和磁化强度
  • 3篇磁化
  • 3篇磁化强度
  • 3篇磁控
  • 3篇磁控溅射
  • 2篇软磁
  • 2篇矫顽力
  • 2篇磁场热处理
  • 2篇磁记录
  • 2篇磁头材料
  • 2篇磁性
  • 2篇磁学
  • 2篇磁学性能
  • 1篇单层膜
  • 1篇硬盘
  • 1篇软磁薄膜

机构

  • 10篇北京科技大学
  • 4篇中国科学院

作者

  • 10篇周剑平
  • 8篇常香荣
  • 8篇田中卓
  • 7篇顾有松
  • 4篇李丹
  • 3篇方光旦
  • 3篇李华飚
  • 3篇宋庆山
  • 2篇乔祎
  • 2篇李福燊
  • 2篇张永平
  • 2篇乔利杰

传媒

  • 2篇真空科学与技...
  • 2篇金属功能材料
  • 1篇电子与电脑
  • 1篇中国科学（A...
  • 1篇材料研究学报
  • 1篇自然科学进展
  • 1篇磁性材料及器...

年份

  • 3篇2002
  • 2篇2001
  • 5篇2000
共 11 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
Fe-N软磁薄膜的性能及其磁场热处理后的各向异性模型被引量：6
2002年
本文报道了采用RF磁控溅射制备出了高性能的Fe-N薄膜 ,膜厚约 2 0 0nm ,磁场热处理后薄膜中含有α′和少量γ′ ,具有优质的软磁性能 ,饱和磁化强度 2 4T ,高于纯铁的 ,矫顽力小于 80A/m ,2～ 10MHz下的磁导率为15 0 0。然后提出一个模型 ,合理的解释了磁场热处理后薄膜表面的各向异性现象 ,包括不同方向的磁滞回线 ,剩磁比 。
李洪明周剑平顾有松常香荣赵春生徐秀英田中卓
关键词：FE-N薄膜磁学性能各向异性模型软磁材料
磁控溅射Fe-N薄膜的结构和性能被引量：3
2000年
研究了氮流量对磁控溅射Ｆｅ－Ｎ薄膜的磁性和结构的影响．加氮薄膜的软磁性能明显优于纯铁的．当氮的流量为１．０ｍＬ·ｍｉｎ^（－１）时，矫顽力 Ｈ_ｃ达到最小值２０５Ａ／ｍ．当氮流量为０．８ｍＬ·ｍｉｎ_（－１）时，饱和磁化强度达到Ｍ_ｓ＝２．３６Ｔ．在 Ｆｅ－Ｎ薄膜中未发现γ’－Ｆｅ４Ｎ和 α”－Ｆｅ１６Ｎ２．
周剑平李华飚乔祎顾有松李丹常香荣赵春生田中卓
关键词：磁控溅射饱和磁化强度FE-N薄膜
Fe-N软磁薄膜的结构和性能被引量：1
2002年
用RF溅射制备厚度为200nm的Fe-N薄膜在250℃,12000A/m磁场下真空热处理后,当N含量在5%~7%(原子百分数)范围内形成a′+a″相时,4πMs可达2.4T,Hc<80A/m,2~10MHz下高频相对导磁率μr=1500,可满足针对10Gb/in2存储密度的GMR/感应式复合读写磁头中写入磁头的需要.Fe-N系薄膜中a′相的形成机理和点阵常数与块状试样按Bain机理形成的a′相有明显的差别,得到了薄膜中a′相的a,c与C_N^a′之间的线性关系式.
周剑平李丹顾有松赵春生常香荣李福燊乔利杰田中卓方光旦宋庆山
关键词：磁性薄膜软磁薄膜硬盘磁头材料
磁控溅射Fe-N单层膜的研究被引量：2
2000年
本文研究了在不同温度的基片上进行磁控溅射 ,氮流量对Fe N薄膜的磁性和结构的影响。实验表明 ,基片温度为 2 0 0℃有助于提高Fe N薄膜的软磁性能。基片为室温和 10 0℃ ,氮流量在 0～ 2sccm范围内变化时 ,未发现γ' Fe4 N和α″ Fe16N2 ,薄膜中只有N在α Fe中的固溶体。基片温度 2 0 0℃ ,氮流量大于 1.0sccm时 ,薄膜中出现γ′ Fe4 N ,但仍未发现α″ Fe16N2 ,加氮后薄膜的软磁性能明显小于纯铁。当氮流量是 1.0sccm ,温度 2 0 0℃时 ,矫顽力达到最小值 ,Hc =30 6.6A/m。当氮流量是 0 .5sccm ,温度是 2 0 0℃时 ,饱和磁化强度达到 4πMs =2 .3T。
周剑平李华飚乔袆张永平顾有松常香荣赵春生田中卓
关键词：饱和磁化强度矫顽力磁控溅射
高密度记录磁头系统的结构和工作原理被引量：3
2000年
现代计算机技术的迅速发展 ,对硬盘的驱动器读写磁头提出了更高的要求 ,要求能满足高密度、一体化、小型化、集成化、高可靠、低能耗的需要 ,硬盘双元件薄膜读写磁头恰好能满足这些要求。简单介绍了双元件薄膜读写磁头的结构和工作原理。
周剑平李华飚顾有松常香荣赵春生田中卓
关键词：磁头自旋阀
RF溅射的Fe-N薄膜的磁导率研究被引量：4
2001年
研究了用ＲＦ溅射法制备的Ｆｅ Ｎ薄膜经过 2 50℃磁场热处理后高频磁导率的变化情况。实验结果发现 ,在优化生长条件下生长的Ｆｅ Ｎ薄膜样品 ,在 1～ 1 0ＭＨｚ的频率范围内 ,易磁化方向的高频磁导率较小 ,但其难磁化方向的相对磁导率可以高达 1 50 0 ,并且基本恒定 ,说明这种Ｆｅ
顾有松周剑平李丹常香荣田中卓方光旦宋庆山
关键词：磁导率FE-N薄膜磁场热处理磁记录介质磁场
降低Fe-N软磁薄膜矫顽力的途径
2002年
用RF磁控溅射沉积的Fe-N磁性薄膜,饱和磁化强度比较高,但矫顽力太高,因而降低H_c成为Fe-N是否可以用于高密度磁记录的关键,在低功率200W下溅射沉积200um的薄膜,在250℃,12000 A/m磁场下真空热处理后,当N含量在f_A为5％～7％范围内,形成a′+a″时,μ_oMs可达2.4T,H_c<80A/m,但Fe-N磁性薄膜厚度需要达到2μm,而H_c往往因厚度增加而增加,提高溅射功率到1000W,使晶粒进一步细化,2μm厚的Fe-N磁性薄膜经250℃,12000A/m磁场下真空热处理后,当N含量在f_A为5.9％～8.5％范围内,形成a′+a″时,μ_oMs=2.2T,H_c仍可低于80A/m,可以满足针对高存储密度的GMR/感应式复合读写磁头中写入磁头的需要。
李丹周剑平顾有松常香荣李福燊乔利杰田中卓方光旦宋庆山
关键词：矫顽力饱和磁化强度磁记录材料
磁头材料 Fe - N 膜的结构和磁性研究
周剑平
关键词：FE-N薄膜磁学性能
Excel2000图表修饰和链接技术
2000年
引言 Microsoft Excel是一个拥有大量用户的电子表格应用软件,在企业办公、数据处理等方面都有非常强大的功能,特别是在最新的Excel 2000中,又增加了新的实用功能。但是,对于如何把图表装饰成美观的图片以及与工作表生成链接,许多人可能知之甚少。本文介绍了这方面的内容,相信会有很多读者对此感兴趣。
周剑平
关键词：EXCEL2000鼠标
磁控溅射Fe-N薄膜及Fe-N/TiN多层膜的结构和磁性被引量：5
2000年
用磁控溅射法制备了Fe N薄膜和Fe N/TiN多层膜。结果表明 ,在常温下 ,使用较小的氮、氩比溅射 ,生成的Fe N薄膜主要是含氮α Fe固溶体 ,并且N原子进入α Fe晶格是饱和磁化强度提高的一个原因。Fe N/TiN多层膜的层间耦合作用以及减小每一Fe N层厚度而引起的晶粒尺寸的减小可以有效地降低薄膜的矫顽力 。
李华飚乔祎周剑平赵春生张永平常香荣田中卓
关键词：磁性溅射沉积FE-N薄膜
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