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初国超

作品数：29 被引量：0H指数：0
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司更多>>
相关领域：电子电信医药卫生理学一般工业技术更多>>

合作作者

题名
作者

文献类型

  • 29篇中文专利

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇医药卫生
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 9篇声波
  • 8篇液罐
  • 8篇储液罐
  • 6篇声波换能器
  • 6篇雾化
  • 6篇雾化液
  • 6篇超纯水
  • 6篇超微
  • 5篇晶片
  • 5篇半导体
  • 3篇电晶体
  • 3篇电缆
  • 3篇电缆接头
  • 3篇循环泵
  • 3篇压电晶体
  • 3篇药液
  • 3篇药液浓度
  • 3篇三通阀
  • 3篇声波干涉
  • 3篇特征结构

机构

  • 29篇北京七星华创...

作者

  • 29篇初国超
  • 19篇吴仪
  • 11篇裴立坤
  • 9篇王营营
  • 9篇何金群
  • 6篇刘效岩
  • 3篇刘海晓
  • 3篇王浩
  • 3篇马嘉
  • 3篇张豹
  • 2篇徐能
  • 2篇蔡家骏
  • 2篇刘伟
  • 1篇赵宏宇
  • 1篇孙文婷

年份

  • 6篇2015
  • 2篇2014
  • 15篇2013
  • 6篇2012
共 29 条 记 录，以下是 1-10
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化学药液供给系统
本发明涉及自动化控制技术，具体公开了一种化学药液供给系统。所述系统包括主用储液罐、备用储液罐、供液装置和控制器，其中：供液装置分别与主用储液罐、备用储液罐以及控制器相连接；主用储液罐及备用储液罐用于储存并提供化学药液；供...
初国超何金群裴立坤王锐廷王营营
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一种清洗雾化喷射装置
本实用新型涉及半导体晶片工艺技术领域，特别涉及一种清洗雾化喷射装置。该清洗雾化喷射装置，包括：上壳体、与上壳体连接的下壳体；上壳体为二阶圆筒状，包括第一阶壳体和第二阶壳体，第一阶壳体的横截面积小于第二阶壳体的横截面积；第...
刘效岩吴仪初国超刘海晓
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晶片清洗装置
本实用新型公开了一种晶片清洗装置，涉及半导体集成电路器件清洗技术领域，所述装置包括：用于承载晶片的晶片承载单元、设置于所述晶片承载单元上方的晶片正面兆声波清洗喷头、设置于所述晶片承载单元内的晶片背面兆声波清洗单元、旋转轴...
刘伟吴仪张豹蔡家骏初国超
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补液装置
本实用新型公开了一种补液装置，包括：储液罐、为所述储液罐提供化学药液的化学药液供给管路、为所述储液罐提供超纯水的超纯水供给管路、为所述储液罐定量补给超纯水的超纯水定量补给管路和循环管路，所述循环管路的一端与所述储液罐出液...
初国超何金群王营营裴立坤
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化学药液分配装置
本实用新型涉及半导体制造领域，具体涉及一种化学药液分配装置。该装置包括储存容器，其内部储存化学药液，其顶部设置有注液入口和回液入口，其底部设置有与循环泵的输入端连接的出液口；采样阀，其为三通阀，其输入端连接循环泵的输出端...
王营营何金群初国超裴立坤贾星杰
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一种清洗雾化喷射装置
本发明涉及半导体晶片工艺技术领域，特别涉及一种清洗雾化喷射装置。该清洗雾化喷射装置，包括：上壳体、与上壳体连接的下壳体；上壳体为二阶圆筒状，包括第一阶壳体和第二阶壳体，第一阶壳体的横截面积小于第二阶壳体的横截面积；第一阶...
刘效岩吴仪初国超刘海晓
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化学药液供给系统
本实用新型涉及自动化控制技术，具体公开了一种化学药液供给系统。所述系统包括主用储液罐、备用储液罐、供液装置和控制器，其中：供液装置分别与主用储液罐、备用储液罐以及控制器相连接；主用储液罐及备用储液罐用于储存并提供化学药液...
初国超何金群裴立坤王锐廷王营营
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晶片清洗装置及清洗方法
本发明公开了一种晶片清洗装置及清洗方法，涉及半导体集成电路器件清洗技术领域，所述装置包括：用于承载晶片的晶片承载单元、设置于所述晶片承载单元上方的晶片正面兆声波清洗喷头、设置于所述晶片承载单元内的晶片背面兆声波清洗单元、...
刘伟吴仪张豹蔡家骏初国超
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晶圆处理设备（多腔室堆栈式）
1.本外观设计产品的名称：晶圆处理设备（多腔室堆栈式）。;2.本外观设计产品的用途：用于铜工艺的互连阶段，多孔性低介电常数材料集成的清洗。;主要去除光刻胶残留、颗粒、通孔内的有机聚合物以及硅片边沿和背面的铜金属。;3.本...
赵宏宇孙文婷张豹王锐廷初国超
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一种清洗雾化喷射装置
本发明涉及半导体晶片工艺技术领域，特别涉及一种清洗雾化喷射装置。该清洗雾化喷射装置，包括：上壳体、与上壳体连接的下壳体；上壳体为二阶圆筒状，包括第一阶壳体和第二阶壳体，第一阶壳体的横截面积小于第二阶壳体的横截面积；第一阶...
刘效岩吴仪初国超刘海晓
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