王妨
- 作品数:2 被引量:1H指数:1
- 供职机构:东北大学更多>>
- 相关领域:一般工业技术理学更多>>
- 磁控溅射制备TiO_2薄膜及其亲水性能实验研究
- 利用反应磁控溅射方法,在硅片表面制备了二氧化钛纳米薄膜。研究了其工艺参数,如:沉积时间、氧气流量、工作压力、电源功率及靶基距对薄膜晶体结构、成分和亲水性能的影响,得到了研究的最佳工艺参数。为了便于比较,在此工艺参数基础上...
- 王妨
- 关键词:二氧化钛掺氮亲水性
- 文献传递
- 射频磁控溅射方法制备掺氮TiO_x薄膜及其结构和亲水性研究(英文)
- 2016年
- 采用磁控溅射方法制备掺氮TiOx薄膜。将TiOx作为靶材,通以N2/Ar混合气体来精确控制N的掺杂量。为改善掺氮TiOx薄膜的性能,首先将试样放于退火炉中退火,退火温度范围为300~600℃;再将试样放于黑暗处一段时间;最后用可见光(VIS)照射。采用扫描电子显微镜(SEM)观察薄膜的表面形貌,结果表明,颗粒尺寸随退火温度升高而增大。采用X射线光电子能谱(XPS)研究薄膜的化学成分,结果表明,薄膜中生成了N-Ti-O(β-N)和羟基,这可能是因为N掺杂入TiOx晶格引起的;且羟基含量随退火温度升高而增加,使得基片有更好的亲水性。采用X射线衍射(XRD)研究薄膜的晶体结构,结果表明,退火后非晶薄膜转变为晶态。采用接触角仪测试薄膜的亲水性,结果表明,水接触角随退火温度升高而减小,这可能是由于颗粒尺寸和羟基含量的改变造成的。亲水性也受避光储存时间的影响,实验结果表明,随着储存时间的增加,水接触角增加。可见光照射实验表明,可见光照射后薄膜的亲水性增加。
- 程春玉蔺增王妨李慕勤
- 关键词:磁控溅射亲水性