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王妨

作品数:2 被引量:1H指数:1
供职机构:东北大学更多>>
相关领域:一般工业技术理学更多>>

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 2篇水性
  • 2篇亲水性
  • 2篇溅射
  • 2篇掺氮
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇氧化钛
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇亲水性能
  • 1篇溅射制备
  • 1篇和亲
  • 1篇二氧化钛
  • 1篇TIO
  • 1篇TIO_2薄...
  • 1篇磁控溅射制备

机构

  • 1篇东北大学
  • 1篇东北师范大学
  • 1篇佳木斯大学

作者

  • 2篇王妨
  • 1篇蔺增
  • 1篇程春玉
  • 1篇李慕勤

传媒

  • 1篇稀有金属材料...

年份

  • 1篇2016
  • 1篇2010
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
磁控溅射制备TiO_2薄膜及其亲水性能实验研究
利用反应磁控溅射方法,在硅片表面制备了二氧化钛纳米薄膜。研究了其工艺参数,如:沉积时间、氧气流量、工作压力、电源功率及靶基距对薄膜晶体结构、成分和亲水性能的影响,得到了研究的最佳工艺参数。为了便于比较,在此工艺参数基础上...
王妨
关键词:二氧化钛掺氮亲水性
文献传递
射频磁控溅射方法制备掺氮TiO_x薄膜及其结构和亲水性研究(英文)
2016年
采用磁控溅射方法制备掺氮TiOx薄膜。将TiOx作为靶材,通以N2/Ar混合气体来精确控制N的掺杂量。为改善掺氮TiOx薄膜的性能,首先将试样放于退火炉中退火,退火温度范围为300~600℃;再将试样放于黑暗处一段时间;最后用可见光(VIS)照射。采用扫描电子显微镜(SEM)观察薄膜的表面形貌,结果表明,颗粒尺寸随退火温度升高而增大。采用X射线光电子能谱(XPS)研究薄膜的化学成分,结果表明,薄膜中生成了N-Ti-O(β-N)和羟基,这可能是因为N掺杂入TiOx晶格引起的;且羟基含量随退火温度升高而增加,使得基片有更好的亲水性。采用X射线衍射(XRD)研究薄膜的晶体结构,结果表明,退火后非晶薄膜转变为晶态。采用接触角仪测试薄膜的亲水性,结果表明,水接触角随退火温度升高而减小,这可能是由于颗粒尺寸和羟基含量的改变造成的。亲水性也受避光储存时间的影响,实验结果表明,随着储存时间的增加,水接触角增加。可见光照射实验表明,可见光照射后薄膜的亲水性增加。
程春玉蔺增王妨李慕勤
关键词:磁控溅射亲水性
共1页<1>
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