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胡晓明
胡晓明
作品数:
3
被引量:1
H指数:1
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中国科学院物理研究所
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林彰达
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邢益荣
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最新的Van Hove LEED程序库
1996年
用低能电子衍射(LEED)强度-电子能量曲线(I-V curve)确定晶体表面结构是目前国际上广泛采用的一种方法.由于理论计算的复杂性,充分利用世界上现有的计算程序已显得十分必要,本文对 Van Hove的 LEED程序库及其应范围和特点作一简单的介绍.
胡晓明
林彰达
M.A.VanHove
关键词:
低能电子衍射
程序库
晶体结构
Si(5,5,12)——一个大元胞的稳定表面
1998年
利用常规的LEED和高分辨率的SPA-LEED技术研究了标称(337)的Si表面原子结构.经过反复的离子轰击(700eVAr+)和1300K退火之后的这种表面形成稳定的(5,5,12)晶面,即结构周期为(337)+(225)+(337)的有序的原子排列.这一事实说明:Si(5,5,12)是比Si(337)更为稳定的晶面.LEED和SPA-LEED图像证实,稳定的Si(5,5,12)表面为(2×1)原子再构,即沿[110]方向的周期是体内结构周期的两倍,而沿[665]方向的周期与体内结构周期相同.Si(5,5,12)-2×1表面的元胞面积为0.768×5.348nm2,这是至今所观察到的最大表面元胞之一.结合其它的实验结果,提出了一个Si(5,5。
邢益荣
W.朗克
胡晓明
关键词:
硅
LEED
SPA-LEED
用低能电子衍射研究氢离子轰击硅表面所产生的相变
被引量:1
1996年
文章描述了用低能电子衍射(LEED)观察氢离子对碳杂质稳定的Si(111)-(1×1)及清洁再构的Si(100)-(2×1)表面轰击,然后加热退火所产生的相变.实验发现:碳杂质稳定的Si(111)-(1×1)表面经氢离子轰击并在800℃退火后产生清洁再构的Si(111)-(7×7)结构;而Si(100)-(2×1)表面经离子氢及氩的混合气体轰击后,在900℃退火产生一个亚稳态Si(100)-c(4×4)结构,进一步在700℃退火后,我们得到一个稳定的Si(100)-p(2×2)结构.文章对实验观察到的相变做了简单的解释,提出了一个新的Si(100)-p(2×2)表面结构模型.
胡晓明
林彰达
关键词:
硅表面
相变
电子衍射
氢离子
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