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李兴权

作品数：8 被引量：0H指数：0
供职机构：福州大学更多>>

合作作者

文献类型

  • 8篇中文专利

主题

  • 4篇最小化
  • 3篇合法化
  • 2篇迭代法
  • 2篇植入
  • 2篇设计方法
  • 2篇图模型
  • 2篇求解器
  • 2篇染色
  • 2篇无向图
  • 2篇线性规划
  • 2篇模数
  • 2篇聚类
  • 2篇刻画
  • 2篇共轭
  • 2篇光刻
  • 2篇法化
  • 2篇DSA
  • 2篇超图
  • 2篇超图模型
  • 2篇成本最小化

机构

  • 8篇福州大学

作者

  • 8篇朱文兴
  • 8篇李兴权
  • 6篇陈建利
  • 2篇杨鹏

年份

  • 1篇2022
  • 1篇2021
  • 5篇2018
  • 1篇2015
共 8 条 记 录，以下是 1-8
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排序方式：
基于分解成本最小化和合法化的三图样光刻布局分解方法
本发明涉及一种基于分解成本最小化和合法化的三图样光刻布局分解方法，该方法将三图样光刻布局分解问题分成两个阶段求解，首先将初始图样布局图转化为无向图，然后采用图缩减方法来缩小问题规模；第一阶段采用一个松弛优化模型对图样进行...
朱文兴李兴权
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DSA通孔层三重模式分解的离散松弛法
本发明涉及一种DSA通孔层三重模式分解的离散松弛法。该方法通过构造一个加权冲突分组图，引入负权重的边，然后提出了一个基于掩模板设计的离散松弛问题；用整数线性规划（ILP）公式来求解离散松弛问题，求得该问题最优值的下界；为...
朱文兴陈建利李兴权
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最小化平均和最大移动的混合高度单元合法化方法
本发明涉及一种最小化平均和最大移动的混合高度单元合法化方法，把电路表示为超图模型；将单元设置方向后，对齐到临近且正确匹配的电源轨道行上；对多倍行高标准单元进行预处理，并通过对目标函数和约束的分析和重构，将混合高度标准单元...
陈建利朱文兴李兴权朱自然陈宇航
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基于分解成本最小化和合法化的三图样光刻布局分解方法
本发明涉及一种基于分解成本最小化和合法化的三图样光刻布局分解方法，该方法将三图样光刻布局分解问题分成两个阶段求解，首先将初始图样布局图转化为无向图，然后采用图缩减方法来缩小问题规模；第一阶段采用一个松弛优化模型对图样进行...
朱文兴李兴权
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最小化平均和最大移动的混合高度单元合法化方法
本发明涉及一种最小化平均和最大移动的混合高度单元合法化方法，把电路表示为超图模型；将单元设置方向后，对齐到临近且正确匹配的电源轨道行上；对多倍行高标准单元进行预处理，并通过对目标函数和约束的分析和重构，将混合高度标准单元...
陈建利朱文兴李兴权朱自然陈宇航
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一种用于单向设计的切口再分配和DSA模板分配方法
本发明提供一种用于单向设计的切口再分配和DSA模板分配方法，属于超大规模集成电路（VLSI）物理设计自动化技术领域。该方法首先将问题转换为加权间隔冲突图。然后，提出一种最小权点不相交路的覆盖算法将图分成一系列路径。最后，...
朱文兴陈建利李兴权黄晔
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基于最小植入区域约束的混合高度单元布局设计方法
本发明提供一种基于最小植入区域约束的混合高度单元布局设计方法，其包括以下步骤：步骤S1：快速全局布局；步骤S2：对水平方向MIA冲突的单元应用基于图的聚类和重塑；步骤S3：基于MIA约束合法化；步骤S4：对单元的位置进行...
陈建利朱文兴杨鹏黄晔李兴权
基于最小植入区域约束的混合高度单元布局设计方法
本发明提供一种基于最小植入区域约束的混合高度单元布局设计方法，其包括以下步骤：步骤S1：快速全局布局；步骤S2：对水平方向MIA冲突的单元应用基于图的聚类和重塑；步骤S3：基于MIA约束合法化；步骤S4：对单元的位置进行...
陈建利朱文兴杨鹏黄晔李兴权
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