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周锌
作品数:
104
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H指数:2
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电子科技大学
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电子电信
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合作作者
乔明
电子科技大学微电子与固体电子学...
张波
电子科技大学微电子与固体电子学...
何逸涛
电子科技大学光电信息学院电子薄...
温恒娟
电子科技大学
向凡
电子科技大学
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周锌
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低辐射漏电高压LDMOS器件
本发明提供了一种低辐射漏电高压LDMOS器件结构,该器件包括AB、AC和AD三个不同截面结构。相比传统高压LDMOS器件结构,本发明在AB截面和AD截面之间增加了一个AC截面结构。元胞区和非元胞区(场区)交界处往非元胞区...
周锌
陈星江
吴中华
王钊
耿立明
乔明
张波
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具有低比导通电阻的横向高压器件
本发明提供一种具有低比导通电阻的横向高压器件,包括第二型掺杂杂质半导体衬底、第一型掺杂杂质漂移区、第二型掺杂杂质阱区、第二型掺杂杂质接触区、第一型掺杂杂质源区、第一型掺杂杂质阱区、第一型掺杂杂质漏区、介质层、多晶硅栅、源...
周锌
赵凯
马阔
王睿迪
乔明
张波
文献传递
低辐射漏电高压LDMOS器件结构
本发明提供一种低辐射漏电高压LDMOS器件结构,该器件包括AB、AC两个不同截面结构。相比传统高压LDMOS器件结构,本发明在器件元胞区和非元胞区交界处的两侧,即AB和AC截面,在非元胞区域增加第一导电类型顶层结构,并与...
周锌
吴中华
王钊
陈浪涛
乔明
张波
一种功率半导体器件及其制造方法
本发明提出一种具有结势垒区和短横向沟道的功率半导体器件及其制造方法,通过体区和隔离栅,在较低漏极电压时快速耗尽结势垒区,形成耗尽层,阻断栅漏之间的电容耦合,同时利用横向沟道和纵向结势垒区域,降低了栅沟道边界PN结在关态时...
周锌
王睿迪
李治璇
王正康
乔明
李肇基
张波
文献传递
具有瞬时剂量率辐射加固结构的横向SOI高压器件
本发明提供一种具有瞬时剂量率辐射加固结构的横向SOI高压器件,包括第二型掺杂杂质半导体衬底、第一型掺杂杂质漂移区、第二型掺杂杂质阱区、第二型掺杂杂质接触区、第一型掺杂杂质源区、第一型掺杂杂质阱区、第一型掺杂杂质漏区、栅氧...
周锌
张凌芳
李治璇
王睿迪
乔明
张波
李肇基
文献传递
功率半导体器件
本发明提出了一种功率半导体器件,包括第二导电类型衬底、第一导电类型下漂移区、第一导电类型漏极接触区、漏极金属电极、第二导电类型下体区、第一导电类型下源极区、第二导电类型下体接触区、下源电极、下栅介质层、下栅电极、埋氧化层...
周锌
赵凯
王睿迪
乔明
张波
文献传递
具有瞬时剂量率辐射加固结构的横向SOI高压器件
本发明提供一种具有瞬时剂量率辐射加固结构的横向SOI高压器件,包括第二型掺杂杂质半导体衬底、第一型掺杂杂质漂移区、第二型掺杂杂质阱区、第二型掺杂杂质接触区、第一型掺杂杂质源区、第一型掺杂杂质阱区、第一型掺杂杂质漏区、栅氧...
周锌
赵凯
师瑞鑫
乔明
张波
一种用于SOI高压集成电路的半导体器件
一种用于SOI高压集成电路的半导体器件,属于功率半导体器件领域。包括半导体衬底层、介质埋层、顶层硅;顶层硅中至少集成了高压LIGBT、NLDMOS和PLDMOS器件;介质埋层的厚度不超过5微米,顶层硅的厚度不超过20微米...
乔明
周锌
温恒娟
何逸涛
章文通
向凡
叶俊
张波
一种降低高压互连影响的横向高压器件
本发明提供一种降低高压互连影响的横向高压器件,包括第一型掺杂杂质接触区、第二型掺杂杂质接触区、第一型掺杂杂质阱区、第二型掺杂杂质阱区、第一型掺杂杂质外延层、第一型掺杂杂质漂移区、绝缘埋层、第二型掺杂杂质衬底、源电极、栅电...
周锌
师锐鑫
乔明
张波
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一种高压集成电路的互连结构
一种高压集成电路的互连结构,属于半导体功率器件技术领域。本发明在具有横向高压功率器件的高压集成电路中,采用多条窄线宽的金属连线连接横向高压功率器件的漏极(或阳极)和高压电路,多条窄线宽的金属连线共同分担横向高压功率器件所...
乔明
张昕
许琬
李燕妃
周锌
吴文杰
张波
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