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黄金勇

作品数：29 被引量：17H指数：3
供职机构：成都精密光学工程研究中心更多>>
发文基金：国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域：电子电信金属学及工艺交通运输工程化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 25篇专利
  • 3篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇金属学及工艺
  • 3篇电子电信
  • 2篇化学工程
  • 2篇交通运输工程
  • 1篇经济管理
  • 1篇机械工程

主题

  • 23篇光学
  • 20篇抛光
  • 12篇光学元件
  • 9篇面形
  • 5篇抛光液
  • 5篇全口径
  • 5篇口径
  • 5篇非球面
  • 4篇抛光装置
  • 4篇摆式
  • 4篇大口径
  • 3篇调节机构
  • 3篇元件
  • 3篇套圈
  • 3篇抛光工艺
  • 3篇伪随机
  • 3篇离轴
  • 3篇技术工艺
  • 3篇工艺过程
  • 3篇光学制造

机构

  • 29篇成都精密光学...

作者

  • 29篇黄金勇
  • 27篇马平
  • 25篇鄢定尧
  • 22篇胡庆
  • 19篇赵恒
  • 18篇谢磊
  • 18篇王刚
  • 16篇何祥
  • 13篇高胥华
  • 11篇朱衡
  • 8篇吕亮
  • 6篇黄颖
  • 5篇鲍振军
  • 5篇蔡红梅
  • 4篇张明骁
  • 4篇蒲云体
  • 3篇樊非
  • 3篇何曼泽
  • 3篇周佩璠
  • 2篇李智钢

传媒

  • 1篇光学精密工程
  • 1篇中国激光
  • 1篇强激光与粒子...

年份

  • 2篇2024
  • 1篇2021
  • 5篇2020
  • 7篇2019
  • 7篇2018
  • 1篇2017
  • 3篇2016
  • 2篇2014
  • 1篇2013
共 29 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种光学元件抛光工具及抛光方法
本发明公开一种光学元件抛光工具，包括连接杆、磨盘、压圈和抛光膜层，连接杆的上端与抛光机构连接，连接杆的下端与磨盘的顶部连接，连接杆的中心轴线与磨盘中心线重合，磨盘的底部中心设置向下凸起的凸台，抛光膜层包覆在凸台上，压圈中...
黄金勇胡庆谢磊蔡超王刚赵恒高胥华何祥马平鄢定尧
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一种带磨损补偿的偏摆式平面抛光装置
本发明公开一种带磨损补偿的偏摆式平面抛光装置，包括用于装置元件的保持架和环抛驱动机构，保持架对抛光盘面进行压力加载，并使元件贴合在抛光盘面上，环抛驱动机构带动保持架在抛光盘面旋转从而使元件进行环抛加工，并且还设置有带动保...
何祥谢磊黄颖黄金勇蔡超胡庆王刚赵恒鄢定尧马平
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一种熔石英光学元件的酸射流刻蚀方法和酸射流刻蚀装置
本发明公开了一种熔石英光学元件的酸射流刻蚀方法和酸射流刻蚀装置，包括酸液输运单元、搅拌混合单元、抛光液输运单元和喷头，采用方法为将熔石英元件在特定浓度的氢氟酸稀溶液中浸泡5～10min，去除表面污染物与抛光再沉积层；根据...
吕亮马平鄢定尧朱衡黄金勇蒲云体蔡超王刚张明骁
一种用于焦距检测的双刀口差分检测装置、检测方法及数据处理方法
本发明公开了一种可用于球面、非球面反射镜或透镜的焦距检测的双刀口差分检测装置、检测方法及数据处理方法，特别适用于大口径长焦距光学元件的焦距检测，涉及光学检测领域。沿光路方向该装置主要包括光源（1）、光束聚焦透镜组（2）、...
赵恒崔建朋胡庆刘杰马平鄢定尧黄金勇蔡超王刚何祥谢磊
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一种光学玻璃元件的数控加工方法、装置及系统
本发明实施例公开了一种光学玻璃元件的数控加工方法、装置及系统。其中，方法包括根据光学玻璃元件的面形误差数据与去除函数计算驻留时间函数，以确定第一加工路径；根据第一加工路径对其进行抛光加工，直至其波前PV值不大于预设PV阈...
黄金勇胡庆谢磊蔡超王刚赵恒马平鄢定尧高胥华
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一种数控抛光工具
本发明公开一种数控抛光工具，包括金属盘、非金属套圈、清扫层、过滤网和抛光模层，所述金属盘与数控抛光机构可拆卸地连接，所述非金属套圈可拆卸地安装于所述金属盘周向侧壁上，所述清扫层设置于所述非金属套圈底部，所述抛光模层设置于...
黄金勇马平鄢定尧胡庆何祥吕亮谢磊高胥华
一种用于焦距检测的双刀口差分检测装置、检测方法及数据处理方法
本发明公开了一种可用于球面、非球面反射镜或透镜的焦距检测的双刀口差分检测装置、检测方法及数据处理方法，特别适用于大口径长焦距光学元件的焦距检测，涉及光学检测领域。沿光路方向该装置主要包括光源（1）、光束聚焦透镜组（2）、...
赵恒崔建朋胡庆刘杰马平鄢定尧黄金勇蔡超王刚何祥谢磊
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水射流抛光去除函数对面形误差修正的影响被引量：4
2016年
研究了水射流抛光条件下的去除函数特征,根据去除函数的一维轮廓特征采用分段解析函数拟合方法建立了去除函数的解析表达式。根据解析表达式采用Matlab数值模拟方法对不同参数条件下的去除函数进行了一维叠加去除模拟,引入波纹度均方根值Wrms指标,对均匀去除与线性去除条件下不同参数对去除函数一维误差修正的影响进行了讨论。通过两轮水射流抛光实验,使F50 mm熔石英玻璃面形峰谷值λPV由0.148λ收敛至0.062λ,90%与75%口径范围分别收敛至0.048λ与0.032λ。面形均方根值λrms由18.86 nm收敛至4.87 nm,90%与75%口径范围内分别收敛至3.67 nm与3.15 nm。
吕亮马平朱衡黄金勇王刚
关键词：光学制造去除函数熔石英
一种用于双转子数控抛光机的异形抛光盘设计与制作方法
本发明公开了一种用于双转子数控抛光机的异形抛光盘设计与制作方法，涉及光学制造与光学材料加工领域。该方法包括：(1)首先确定抛光盘特征参数；(2)对抛光盘进行环带分割，并计算环带去除函数h<Sub>i</Sub>；(3)根...
吕亮黄金勇胡庆蒲云体马平鄢定尧张明骁朱衡刘杰
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离轴非球面光学加工装置
本实用新型公开了一种离轴非球面光学加工装置，属于光学元件加工技术领域。它包括加工平台、变频电机、驱动轴和摆动轴；驱动轴依次与摆幅调节机构、驱动臂连接；摆动轴上设有摆臂座；摆臂座上设有摆臂；驱动臂经关节轴承与连杆连接，连杆...
马平鄢定尧鲍振军蔡红梅朱衡樊非何曼泽赵恒周佩璠黄金勇黄颖
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