- 射频容性耦合等离子体非均匀特性的实验研究
- 在超大规模集成电路生产工艺中,射频容性耦合等离子体常用于薄膜生长,基片刻蚀,和表面改性等。射频容性耦合等离子体源结构简单,容易形成大口径等离子体,在基片刻蚀过程中,射频容性耦合等离子体可以实现各向异性的刻蚀,容性耦合等离...
- 邵建国
- 关键词:发射光谱法
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- 射频激发容性耦合等离子体空间的不均匀性实验研究被引量:2
- 2010年
- 使用高分辨的等离子体发射光谱系统(OES)研究了射频驱动的容性耦合Ar等离子体的空间光谱分布特性.实验结果表明,等离子体发射强度的空间分布对压强、频率和放电腔体的结构有很强的依赖关系.边界效应(如电报效应、趋肤效应等)使得等离子体发射光谱在电极边缘附近具有强的光谱强度,从而使得200 mm范围内等离子体的不均匀性高于100 mm范围内的情形;驻波效应的存在导致在反应器中心位置出现一个中等强度的谱峰;另外,由于射频波可以在介质板中传播,上极板覆盖有介质情况下的等离子体的不均匀性要高于无介质覆盖的情形.
- 邵建国张杰徐海朋辛煜
- 关键词:趋肤效应