您的位置: 专家智库 > >

马婕

作品数:3 被引量:25H指数:3
供职机构:西安理工大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:机械工程一般工业技术金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 2篇机械工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇显微结构
  • 2篇GLC
  • 1篇镀层
  • 1篇碳涂层
  • 1篇摩擦磨损性能
  • 1篇摩擦学
  • 1篇摩擦学性能
  • 1篇溅射
  • 1篇复合镀
  • 1篇复合镀层
  • 1篇改性
  • 1篇
  • 1篇C/C
  • 1篇CR
  • 1篇CR含量
  • 1篇DLC
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 3篇西安理工大学

作者

  • 3篇蒋百灵
  • 3篇张永宏
  • 3篇马婕

传媒

  • 1篇摩擦学学报(...
  • 1篇西安理工大学...
  • 1篇材料热处理学...

年份

  • 3篇2007
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
Cr含量对类石墨碳涂层硬度及其价键结构的影响被引量:13
2007年
为了探讨Cr含量对类石墨碳(GLC)涂层硬度的影响机理,采用非平衡磁控溅射离子镀技术,通过调整Cr靶电流,制备出了具有不同Cr含量的GLC涂层。借助显微硬度计测量了涂层的硬度,利用X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)分析了涂层的成分、相组成和主元素的价键结构。结果表明,Cr有显著软化GLC涂层的作用。随着Cr含量增加,GLC涂层中的sp3杂化碳的含量持续减小,sp2杂化碳的含量先增后减,而金属铬及碳铬化合物的含量则不断增大。上述因素对GLC涂层的硬度变化均有影响,而涂层中sp3杂化碳的含量随着Cr含量增加持续减小是造成GLC涂层硬度不断降低的主要原因。
张永宏马婕蒋百灵
Cr靶电流对Cr改性类石墨薄膜摩擦磨损性能的影响被引量:11
2007年
采用闭合场非平衡磁控溅射离子镀设备,在不同Cr靶电流参数下制备Cr改性类石墨薄膜,测试了薄膜的硬度、结合强度、摩擦系数和比磨损率,采用扫描电子显微镜和透射电子显微镜观察薄膜的显微结构.结果表明:改变Cr靶电流不仅能够改变薄膜的化学成分,而且能够改变薄膜的显微结构;随着Cr靶电流增加,薄膜的断口出现纤维状结构,并逐渐发展为柱状结构;Cr的加入使得类石墨薄膜形成周期性层状结构;在干摩擦条件下,随着Cr靶的电流增加,GLC膜的摩擦系数先减小而后增大;当载荷较小时,薄膜的比磨损率随Cr靶电流的增加而增大,载荷较大时薄膜的比磨损率变化不大.化学成分和显微结构的变化引起GLC膜硬度和韧性的变化,从而改变了薄膜的摩擦磨损性能.
马婕蒋百灵张永宏
关键词:显微结构摩擦磨损性能
Cr靶电流对磁控溅射C/Cr复合镀层性能和结构的影响被引量:3
2007年
使用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制备了C/Cr复合镀层,并研究了Cr靶电流对C/Cr复合镀层摩擦学性能的影响规律。采用XPS检测了C/Cr复合镀层的化学成分,采用XRD分析了镀层的晶相结构,采用SEM观察了镀层的表面和断口形貌。实验结果表明:使用较小的Cr靶电流能改善镀层表面质量,降低镀层摩擦系数;Cr靶电流过大时,镀层的性能明显下降。
马婕张永宏蒋百灵
关键词:摩擦学性能显微结构
共1页<1>
聚类工具0