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文献类型

  • 5篇专利
  • 2篇会议论文
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇一般工业技术
  • 1篇电子电信

主题

  • 7篇纳米
  • 4篇光栅
  • 3篇旋涂
  • 3篇压印
  • 3篇纳米压印
  • 2篇等离子体聚合
  • 2篇点阵结构
  • 2篇脱模
  • 2篇脱模剂
  • 2篇离子
  • 2篇离子刻蚀
  • 2篇流控
  • 2篇面形
  • 2篇纳米压印技术
  • 2篇刻蚀
  • 2篇基底
  • 2篇光栅结构
  • 2篇光栅图形
  • 2篇反应离子
  • 2篇反应离子刻蚀

机构

  • 9篇合肥工业大学

作者

  • 9篇刘玉东
  • 8篇王旭迪
  • 7篇李鑫
  • 7篇涂吕星
  • 6篇郑正龙
  • 2篇金建
  • 2篇陶伟
  • 2篇王时飞
  • 2篇汤启升

传媒

  • 1篇真空
  • 1篇中国真空学会...

年份

  • 1篇2014
  • 3篇2013
  • 5篇2012
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
动态纳米刮印结合等离子体聚合制作纳米通道的系统
本实用新型公开了一种动态纳米刮印结合等离子体聚合制作纳米通道的系统,其特征是:在硅片上制作出纳米尺寸光栅图形的模板,纳米尺寸光栅图形在模板的上表面前沿的棱边上形成有光栅线槽;将柔性聚合物基底设置为可连续前行的传送带,其在...
王旭迪汤启升涂吕星刘玉东李鑫郑正龙金建
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动态纳米刮印结合等离子体聚合制作纳米通道的方法及系统
本发明公开了一种动态纳米刮印结合等离子体聚合制作纳米通道的方法及系统,其特征是:在硅片上制作出纳米尺寸光栅图形的模板,纳米尺寸光栅图形在模板的上表面前沿的棱边上形成有光栅线槽;将柔性聚合物基底设置为可连续前行的传送带,其...
王旭迪汤启升涂吕星刘玉东李鑫郑正龙金建
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低压压印制备硅点阵结构的工艺研究被引量:2
2013年
高密度、图形规则的硅点阵结构由于其独特的光电性能具有广泛的应用前景。本文介绍了一种以低压压印结合反应离子刻蚀制备硅点阵的方法,即利用PDMS模板通过压印复制获得PMMA掩模结构,用反应离子刻蚀在硅片表面制得高度有序的硅纳米点阵结构。实验和有限元模拟结果表明,低压压印因为毛细作用下光刻胶在模板内的充分填充可以获得良好的图形复制精度和较小的残余胶厚度,因此适于大面积高密度光刻胶结构的均匀复制。
刘玉东陶伟王时飞李鑫王旭迪
关键词:纳米压印反应离子刻蚀
基于PET表面超疏水结构的制备与表征
固体表面的润湿性由固体的表面形态和表面能决定。首先采用氧等离子体刻蚀的方法对PET基片表面进行处理,改变其表面形貌;然后在PET基片上沉积疏水性涂层以降低基片的表面能。经检测,通过上述两步处理过后的PET基片表面对水的接...
郑正龙李鑫刘玉东涂吕星王旭迪
关键词:表面形态表面能超疏水PET
基于液气平衡的聚合物纳米通道自构建机理制备微纳米通道的方法
本发明公开了一种基于液气平衡的聚合物纳米通道自构建机理制备微纳米通道的方法,是使用光栅模板利用纳米压印技术制备SU-8胶的纳米光栅结构,接着在SU-8胶的光栅结构上旋涂一层脱模剂,然后利用狭缝型挤压涂胶的方式在覆有脱模剂...
王旭迪李鑫涂吕星郑正龙刘玉东
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逆向热键合技术制作尺寸可控的微纳米流体系统
本发明公开了一种逆向热键合技术制作尺寸可控的微纳米流体系统的方法,首先在预处理过的光栅模板上涂覆一层SU-8光刻胶,通过逆向压印技术将图形复制到SU-8光刻胶上,然后根据各向界面间的粘附能不同的原理,使用UV胶带将固化的...
王旭迪涂吕星刘玉东陶伟王时飞
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基于PET表面超疏水结构的制备与表征
固体表面的润湿性由固体的表面形态和表面能决定。首先采用氧等离子体刻蚀的方法对PET基片表面进行处理,改变其表面形貌;然后在PET基片上沉积疏水性涂层以降低基片的表面能。经检测,通过上述两步处理过后的PET基片表面对水的接...
郑正龙李鑫刘玉东涂吕星王旭迪
关键词:表面形态表面能超疏水PET
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基于液气平衡的聚合物纳米通道自构建机理制备微纳米通道的方法
本发明公开了一种基于液气平衡的聚合物纳米通道自构建机理制备微纳米通道的方法,是使用光栅模板利用纳米压印技术制备SU-8胶的纳米光栅结构,接着在SU-8胶的光栅结构上旋涂一层脱模剂,然后利用狭缝型挤压涂胶的方式在覆有脱模剂...
王旭迪李鑫涂吕星郑正龙刘玉东
基于低压压印制备硅点阵结构的工艺研究及其应用
硅纳米线由于其特有的半导体、机械性能、光电特性,日益成为人们研究的重点。目前在场效应晶体管、生物及化学传感器、集成逻辑电路、太阳能电池等多个领域有着广泛的应用。虽然目前制备硅纳米线的方法有许多种,如气液固生长法、氧化辅助...
刘玉东
关键词:硅纳米结构反应离子刻蚀硅太阳能电池
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共1页<1>
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