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田风军

作品数：1 被引量：11H指数：1
供职机构：黑龙江大学电子工程学院集成电路重点实验室更多>>
发文基金：黑龙江省教育厅科学技术研究项目更多>>
相关领域：化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇化学工程

主题

  • 1篇锐钛矿
  • 1篇锐钛矿相
  • 1篇射频磁控
  • 1篇射频磁控溅射
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射制备
  • 1篇光催化
  • 1篇光催化活性
  • 1篇TIO_2薄...
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇磁控溅射制备
  • 1篇催化
  • 1篇催化活性

机构

  • 1篇北京理工大学
  • 1篇黑龙江大学

作者

  • 1篇邱成军
  • 1篇刘鑫
  • 1篇张辉军
  • 1篇刘红梅
  • 1篇田风军
  • 1篇曹茂盛

传媒

  • 1篇材料工程

年份

  • 1篇2005
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
磁控溅射制备掺银TiO_2薄膜的光催化特性研究被引量：11
2005年
利用交流磁控溅射设备采用金属Ti靶在石英和硅衬底制备掺银TiO2薄膜,并利用SEM,XRD及吸收光谱等方法分析测试TiO2薄膜的性质,探讨了掺银对TiO2薄膜吸收光谱的影响。并通过对甲基橙溶液浓度变化研究了掺银TiO2薄膜光催化特性,分析了掺银对TiO2薄膜增强光催化作用的工作机理,研究结果表明掺银有利于TiO2薄膜对有机物的降解作用。
邱成军曹茂盛张辉军刘红梅田风军刘鑫
关键词：锐钛矿相射频磁控溅射光催化活性
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共1页<1>
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