您的位置: 专家智库 > >

陈妙

作品数:2 被引量:2H指数:1
供职机构:复旦大学材料科学系更多>>
发文基金:国家科技重大专项更多>>
相关领域:化学工程电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇导电胶
  • 1篇电阻率
  • 1篇圆片
  • 1篇圆片级
  • 1篇圆片级封装
  • 1篇填料
  • 1篇铜粉
  • 1篇金属
  • 1篇金属间化合物
  • 1篇抗氧化
  • 1篇剪切力
  • 1篇封装
  • 1篇UBM
  • 1篇WLP
  • 1篇IMC
  • 1篇表面处理

机构

  • 2篇复旦大学
  • 1篇东南大学

作者

  • 2篇肖斐
  • 2篇陈妙
  • 1篇奚嘉
  • 1篇龙欣江

传媒

  • 1篇半导体技术
  • 1篇复旦学报(自...

年份

  • 1篇2018
  • 1篇2015
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
铜粉表面处理提升铜导电胶性能的研究被引量:2
2018年
铜作为填料存在易氧化、氧化后电性能下降等缺点,限制了铜在导电胶中的应用.本文针对铜粉易氧化的问题,用乳酸和3-二乙基氨基-1,2-丙二醇(DEAPD)分别及同时对铜粉进行了表面处理.热失重分析显示,铜粉经表面处理后吸附了0.4%~0.7%的有机物,且因铜粉氧化而质量增加的拐点温度大幅提升,表明铜粉的抗氧化能力得到了增强.红外光谱分析表明微米铜粉表面吸附物分别为乳酸铜和胺.由于乳酸铜和DEAPD的保护作用,以及DEAPD对乳酸铜还原分解的促进作用,经表面处理铜粉填充的导电胶电性能大幅提升,体电阻率由(2.0±0.4)×10-2Ω·cm降低至(3.1±0.2)×10-4Ω·cm.初步的老化试验表明,经过表面处理的铜粉制备的导电胶具有更好的体电阻率稳定性.
陈妙金云霞亓恬珂肖斐
关键词:导电胶表面处理抗氧化电阻率
FeNi合金UBM圆片级封装焊点剪切力研究
2015年
Fe Ni合金与无铅焊料反应速率低,生成的金属间化合物(IMC)较薄,有望作为圆片级封装(WLP)凸点下金属(UBM)层材料。对两种Fe Ni UBM以及一种Cu UBM圆片级封装样品进行回流、湿热以及预处理实验,并通过推球的方法,对其焊点进行剪切测试。通过断面与截面分析,研究其在不同处理条件下的金属间化合物生长情况,分析其断裂模式。结果表明,Fe Ni UBM焊点剪切力高于Cu UBM。Fe47Ni UBM与焊料反应生成的金属间化合物较薄,对于剪切力影响较小,而Fe64Ni UBM与焊料反应生成离散的Cu Ni Sn金属间化合物,对于其焊点强度有提高作用,Cu UBM与焊料反应生成较厚的金属间化合物,会明显降低焊点的剪切力。断面分析表明,Cu UBM会随焊球发生断裂,其强度明显小于Fe Ni UBM。
奚嘉陈妙肖斐龙欣江张黎赖志明
关键词:剪切力
共1页<1>
聚类工具0