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陈金明

作品数:2 被引量:7H指数:2
供职机构:东南大学更多>>
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相关领域:电子电信理学更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 2篇波导
  • 1篇亚胺
  • 1篇曝光量
  • 1篇酰亚胺
  • 1篇聚合物波导
  • 1篇聚合物光波导
  • 1篇聚酰亚胺
  • 1篇光波
  • 1篇光刻
  • 1篇光刻工艺
  • 1篇含氟
  • 1篇含氟聚酰亚胺
  • 1篇传输损耗

机构

  • 2篇东南大学

作者

  • 2篇恽斌峰
  • 2篇崔一平
  • 2篇胡国华
  • 2篇陈金明
  • 1篇吕广才
  • 1篇陆志远

传媒

  • 1篇电子器件
  • 1篇光电子技术

年份

  • 2篇2007
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
有机聚合物光波导光刻工艺的优化被引量:2
2007年
针对RZJ-304(25 mp.s)型正性光刻胶,对芯层为PMMA的光波导材料,研究接触式光刻机提高光刻分辨率的方法。分别采用不同的曝光强度和曝光时间来改变曝光量,研究其对光刻图形宽度的影响;并通过改变曝光后烘焙(PEB)的温度和时间以及采用不同的显影时间,研究了其对光刻图形宽度的影响,从而得出优化的光刻工艺参数。
陈金明胡国华恽斌峰崔一平
关键词:聚合物光波导光刻工艺曝光量
含氟聚酰亚胺有机聚合物波导的制备被引量:5
2007年
采用含氟单体4,4'-(六氟异丙基)-苯二酸酐(6FDA)、5,5'-(六氟异丙基)-二-(2-氨基苯酚)(6FHP)及二氨基二苯醚(ODA)合成了含氟聚酰亚胺共聚物材料,对材料的化学和光学性能进行了表征.共聚物材料在溶液状态下用旋涂法获得了较高质量的共聚物薄膜,并在此基础上采用先进的光波导工艺技术将该材料制备成条波导,测试结果表明该波导在光通信波段1550nm处的平均传输损耗小于0.66dB/cm,局部损耗在0.2dB/cm,进一步改进后有望获得性能优异的光电子器件.
吕广才胡国华恽斌峰陆志远陈金明崔一平
关键词:含氟聚酰亚胺聚合物波导传输损耗
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