杨斌
- 作品数：2 被引量：3H指数：1
- 供职机构：山东大学空间科学与物理学院更多>>
- 发文基金：山东省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信更多>>
- 薄膜厚度对直流溅射制备AZO薄膜的特性影响被引量：2
- 2009年
- 采用直流磁控溅射法,当衬底温度为室温时,在普通玻璃衬底上制备出了低电阻率、高透过率的ZnO∶Al透明导电薄膜。研究了薄膜厚度对薄膜结构以及光电特性影响。当薄膜厚度为930 nm,薄膜的光电特性最好,电阻率为4.65×10-4Ω.cm,可见光范围内的平均透过率为85.8%,禁带宽度约为3.51 eV。
- 张平王连杰杨斌宋淑梅杨田林
- 关键词：直流磁控溅射薄膜厚度光电特性禁带宽度
- 同质缓冲层厚度对掺铝氧化锌薄膜性能的影响被引量：1
- 2010年
- 室温下,采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上制备具有同质缓冲层的ZnO∶Al(AZO)薄膜。用X射线衍射仪、紫外-可见分光光度计、四探针探测仪等对薄膜的结构和光电性能进行了研究。结果表明:当薄膜总厚度为400 nm时,制备具有66 nm同质缓冲层的AZO薄膜的方块电阻为26Ω.□–1,与单层AZO(400 nm)薄膜的方块电阻(63Ω.□–1)相比,下降了59%,其在可见光范围内的平均透过率为91%。
- 杨斌王连杰张平宋淑梅杨田林
- 关键词：AZO厚度方块电阻透过率
