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陈文锦

作品数：1 被引量：6H指数：1
供职机构：中国科学院固体物理研究所更多>>
相关领域：一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇氮化
  • 1篇氮化硅
  • 1篇等离子体增强
  • 1篇等离子体增强...
  • 1篇折射率
  • 1篇化学气相
  • 1篇化学气相沉积
  • 1篇PECVD
  • 1篇表面形貌
  • 1篇沉积速率

机构

  • 1篇中国科学院

作者

  • 1篇陈家荣
  • 1篇邱凯
  • 1篇马文霞
  • 1篇陈文锦

传媒

  • 1篇真空

年份

  • 1篇2007
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
磁场辅助等离子体增强化学气相沉积被引量：6
2007年
本文根据螺线管线圈内部磁场的分布规律,以及磁场对等离子体内部电子的作用原理,设计了磁场辅助的等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统,并且研究了在PECVD系统中获得均匀磁场的方法。而后,以SiH4和N2为反应气体,在低气压下沉积了SiN薄膜。测量了SiN薄膜的沉积速率,折射率,表面形貌等参数。验证了磁场分布的均匀性,分析了磁场在等离子体增强化学气相沉积系统中的作用。
陈家荣陈文锦邱凯马文霞
关键词：PECVD氮化硅沉积速率折射率表面形貌
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