邹微波
- 作品数：3 被引量：24H指数：3
- 供职机构：广东工业大学机电工程学院更多>>
- 发文基金：国家教育部博士点基金国家自然科学基金广东省自然科学基金更多>>
- 相关领域：金属学及工艺机械工程更多>>
- 化学机械抛光过程抛光液作用的研究进展被引量：14
- 2012年
- 化学机械抛光(CMP)已成为公认的纳米级全局平坦化精密超精密加工技术。抛光液在CMP过程中发挥着重要作用。介绍了CMP过程中抛光液的作用的研究进展,综合归纳了抛光液中各组分的作用,为抛光液的研制和优化原则的制定提供了参考依据。
- 邹微波魏昕杨向东谢小柱方照蕊
- 关键词：抛光液材料去除率
- 新型抛光垫沟槽及其在化学机械抛光中的作用研究进展被引量：7
- 2012年
- 化学机械抛光过程中,抛光垫性能是影响抛光质量和抛光效率的重要因素之一,而抛光垫的性能又受其表面沟槽结构形状的影响。在介绍几种常见抛光垫沟槽结构形状的特性及其作用研究的基础上,介绍了新型抛光垫沟槽的研究进展,总结了几种新型抛光垫沟槽对抛光效果的影响,为抛光垫沟槽特性的进一步研究提供参考。
- 方照蕊魏昕杨向东邹微波
- 关键词：化学机械抛光抛光垫
- 不锈钢基板的化学抛光研究被引量：4
- 2013年
- 不锈钢基板是下一代柔性显示器的理想选择,对其表面加工是世界各国显示器厂商争相研究攻克的技术。根据不锈钢基板的主要化学成分,提出了化学抛光液的配制原则。通过测量不锈钢基板表面粗糙度和失重率的变化,研究不同抛光液组份对抛光效果的影响,分析不同化学组份的作用机理,确定了以磷酸、盐酸、硝酸、亚硝酸钠和添加剂为主要成分的不锈钢基板化学抛光液。结果表明,在一定的工艺条件下,锈钢基板由抛光液抛光后可取得较好的抛光表面。
- 邹微波魏昕杨向东谢小柱
- 关键词：化学抛光表面粗糙度失重率
