涂金伟
- 作品数：1 被引量：4H指数：1
- 供职机构：江西科技师范学院更多>>
- 发文基金：江西省教育厅科学技术研究项目更多>>
- 相关领域：金属学及工艺更多>>
- Si和Y掺杂对(Ti,Al)N涂层结构和性能的影响被引量：4
- 2012年
- 分别在未施加偏压和施加-100 V偏压条件下,利用磁控溅射技术在压气机叶片用1Cr11Ni2W2MoV热强不锈钢基体上沉积了Ti_(0.3)Al_(0.7)N和Ti_(0.39)Al_(0.55)Si_(0.05)Y_(0.01)N硬质涂层.实验结果表明,施加偏压及Si和Y掺杂明显改变了涂层的相结构,提高了涂层致密度,施加-100 V偏压且添加Si和Y的涂层为非晶结构,表面更加均匀致密.950℃氧化实验表明:Ti_(0.39)Al_(0.55)Si_(0.05)Y_(0.01)N涂层表面形成极薄且致密的Al_2O_3保护性氧化膜,大大降低了氧化速率.施加-100 V偏压的(Ti,Al)N和(Ti,Al,Si,Y)N沉积态涂层与未施加偏压的相应涂层相比,硬度均降低,尤其是(Ti,Al,Si,Y)N涂层变化显著.经950℃热处理,施加偏压的(Ti,Al,Si,Y)N涂层硬度略有降低,这是由于形成了硬度较低的B4相,而未施加偏压的(Ti,Al,Si,Y)N涂层硬度显著提高,这归因于B1相固溶体的分解.划痕测试结果表明,在实验载荷(50N)下,所有涂层均未出现连续性的剥落.
- 范永中张淑娟涂金伟孙霞刘芳李明升
- 关键词：磁控溅射(TI,AL)N抗氧化性能结合力
