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陶亮

作品数:1 被引量:7H指数:1
供职机构:华中科技大学光学与电子信息学院电子科学与技术系更多>>
相关领域:一般工业技术更多>>

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇扫描电镜
  • 1篇射线衍射
  • 1篇粒度
  • 1篇化学共沉淀
  • 1篇化学共沉淀法
  • 1篇共沉淀法
  • 1篇二氧化锡
  • 1篇粉体
  • 1篇粉体粒度
  • 1篇X-射线
  • 1篇X-射线衍射
  • 1篇ATO
  • 1篇掺锑
  • 1篇掺锑二氧化锡
  • 1篇沉淀法

机构

  • 1篇华中科技大学

作者

  • 1篇张道礼
  • 1篇梁延彬
  • 1篇程有光
  • 1篇陶亮

传媒

  • 1篇压电与声光

年份

  • 1篇2007
1 条 记 录,以下是 1-1
排序方式:
化学共沉淀工艺对ATO粉体粒度的影响被引量:7
2007年
采用化学共沉淀法制备掺锑二氧化锡粉体(ATO),用x-射线衍射法和扫描电子显微镜对粉体粒度作了表征。系统研究了退火温度、反应体系pH值、掺锑量和煅烧温度等工艺参数对最终粉体粒径的影响规律,并得到了最佳工艺操作参数:反应体系pH值应选1~3较低范围内,锑掺杂剂摩尔分数在5%,热处理温度应控制在550-650℃。用量子尺寸效应和能带理论解释了所得粉体的发色机理。
陶亮张道礼梁延彬程有光
关键词:掺锑二氧化锡化学共沉淀法X-射线衍射扫描电镜
共1页<1>
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