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陶亮
作品数:
1
被引量:7
H指数:1
供职机构:
华中科技大学光学与电子信息学院电子科学与技术系
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相关领域:
一般工业技术
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合作作者
程有光
华中科技大学光学与电子信息学院...
梁延彬
华中科技大学光学与电子信息学院...
张道礼
华中科技大学光学与电子信息学院...
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张道礼
1篇
梁延彬
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程有光
1篇
陶亮
传媒
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压电与声光
年份
1篇
2007
共
1
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化学共沉淀工艺对ATO粉体粒度的影响
被引量:7
2007年
采用化学共沉淀法制备掺锑二氧化锡粉体(ATO),用x-射线衍射法和扫描电子显微镜对粉体粒度作了表征。系统研究了退火温度、反应体系pH值、掺锑量和煅烧温度等工艺参数对最终粉体粒径的影响规律,并得到了最佳工艺操作参数:反应体系pH值应选1~3较低范围内,锑掺杂剂摩尔分数在5%,热处理温度应控制在550-650℃。用量子尺寸效应和能带理论解释了所得粉体的发色机理。
陶亮
张道礼
梁延彬
程有光
关键词:
掺锑二氧化锡
化学共沉淀法
X-射线衍射
扫描电镜
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