崔凯洪
- 作品数：6 被引量：13H指数：3
- 供职机构：四川大学电子信息学院更多>>
- 相关领域：理学机械工程更多>>
- 加工误差引入的薄型KDP晶体附加面形被引量：3
- 2012年
- 针对惯性约束聚变(ICF)驱动装置中口径为400mm×400mm薄型频率转换KDP晶体在45°放置状态下产生的附加面形问题,采用有限元分析软件ANSYS,建立了以实测数据为基础的大口径薄型KDP晶体的应变模型和有加工误差的夹具模型,仿真分析了KDP晶体的加工误差和夹具的加工误差对KDP晶体附加面形的影响,给出了KDP晶体附加面形变化的P-V值和RMS值。在此基础上,通过对KDP晶体的加工误差及夹具支撑表面不同类型和不同大小加工误差的分析和比较,得出:KDP晶体边缘的加工误差和夹具支撑表面的凹型加工误差是引起较大附加面形的原因之一,KDP晶体的加工误差也会导致其面形变化不均匀,而夹具支撑表面的凸型、波浪形加工误差和压条表面的随机加工误差对KDP晶体附加面形的影响相对较小,且支撑表面的随机加工误差引起的附加面形变化介于其他两者之间。
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- 关键词：大口径光学元件夹具支撑表面压条
- 夹持方式对频率转换KDP晶体面形的影响被引量：9
- 2011年
- 针对惯性约束聚变(ICF)系统中大口径超薄KDP晶体在不同夹持和不同姿态下的面形变化,采用有限元分析软件ANSYS,建立了大口径超薄KDP晶体在不同夹持和不同姿态下的应变模型及其边界条件的确定方法,计算了四周简支正面点力、四周固支正面压条、四周简支侧面点力、四周固支侧面压条4种夹持方式在30°和垂直姿态下大口径超薄KDP晶体的面形变化,并给出了面形变化的P-V值和RMS值。在此基础上,通过对不同夹持和不同姿态下KDP晶体面形变化的分析和比较,给出了四周固支正面压条是引起晶体面形变化相对较小的夹持方式的结论。
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- 关键词：夹持
- 夹持方式对KDP晶体三倍频转换效率的影响被引量：7
- 2011年
- 针对压条固定方式、粘胶固定方式和全外围夹持方式进行理论建模和数值计算分析,并讨论了不同夹持方式的优缺点及其对KDP晶体面形和三倍频转换效率的影响。研究结果表明:晶体面形形变对高斯光束三倍频转换效率的影响明显小于平面波时的情况。当入射基频光光强为6GW.cm-2时,对于平面波的情况,压条固定方式、粘胶固定方式和全外围夹持方式3种夹持方式相对于不考虑夹持作用时的三倍频转换效率分别减小7.5%,9.0%和7.2%;对于高斯光束的情况,三倍频转换效率分别减小了1.3%,1.0%和1.5%。
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- 关键词：惯性约束聚变KDP晶体
- 夹持方式和加工误差对大口径薄型KDP晶体附加面形的影响被引量：3
- 2012年
- 惯性约束聚变频率转换系统中,大口径薄型KDP晶体的面形质量是影响频率转换效率能否达到设计要求的关键因素之一。针对45°放置状态下口径为400mm×400mm的三倍频KDP晶体,采用AN-SYS有限元分析软件,建立了不同夹持方式和具有不同加工误差的KDP晶体模型和夹具模型,分析了加工误差对不同夹持方式下KDP晶体附加面形的影响,给出了不同加工误差和不同夹持情况下,KDP晶体附加面形的P-V值和RMS值。研究结果表明,夹持方式和加工误差是引起KDP晶体附加面形变化的重要因素,正面压条夹持方式即使在晶体和夹具存在加工误差时也可以较好地控制晶体的附加面形。
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- 关键词：惯性约束聚变KDP晶体
- KDP晶体全外围夹持方案理论分析
- 2011年
- 在超大超薄KDP晶体紧密装校过程中,由于夹持力与重力作用,导致晶体面形发生形变。本文提出了KDP晶体全外围夹持方案,并对KDP晶体垂直状态下的各种受力模型进行应变分析。理论分析结果表明:对称支撑与均匀施力对晶体面形影响较大;当满足对称支撑和均匀施力的情况下,上侧面四个胶钉施力小于25N时,能够满足在线物理实验要求。
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- 关键词：ICFKDP晶体
- KDP晶体面形控制夹持方案的分析及优化
- 2012年
- 本文提出了一种能较大程度优化大口径晶体面形的夹持方案,同时分析对比了优化方案与常规方案下重力作用对KDP晶体面形和三倍频转换效率的影响。研究结果表明:优化方案能极大的改善重力对KDP晶体面形的影响;同时当基频光光强为5.5GW/cm2时,优化方案较之三种常规方案的三倍频转换效率分别提高了6.2%、9.5%和6.5%。
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- 关键词：KDP晶体
