您的位置: 专家智库 > >

王佳斌

作品数:2 被引量:2H指数:1
供职机构:南昌大学国家硅基LED工程技术研究中心更多>>
发文基金:国家科技支撑计划更多>>
相关领域:电子电信一般工业技术更多>>

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇应力
  • 2篇硅衬底
  • 2篇衬底
  • 1篇铜基
  • 1篇退火
  • 1篇蓝光
  • 1篇蓝光LED
  • 1篇SI衬底
  • 1篇XRD
  • 1篇GAN
  • 1篇GAN基LE...
  • 1篇G-I

机构

  • 2篇南昌大学
  • 1篇闽南师范大学

作者

  • 2篇王佳斌
  • 1篇熊传兵
  • 1篇汤英文

传媒

  • 1篇发光学报

年份

  • 1篇2016
  • 1篇2015
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
硅衬底蓝光LED退火及铜基板工艺研究
随着InGaN/GaN LED外延生长和芯片制备等技术的成熟,LED在照明,显示和背光市场上大放光彩,人们除了重视LED成本以外,对LED芯片制作的良率和芯片的可靠性也越来越关注。众所周知,从尺寸、成本、导电性能、散热性...
王佳斌
关键词:SI衬底退火应力
文献传递
硅衬底GaN基LED薄膜芯片的应力调制被引量:2
2016年
将Si衬底GaN基LED外延薄膜经晶圆键合、去硅衬底等工艺制作成垂直结构GaN基LED薄膜芯片,并对其进行不同温度的连续退火,通过高分辨X射线衍射(HRXRD)研究了连续退火过程中GaN薄膜芯片的应力变化。研究发现:垂直结构LED薄膜芯片在160~180℃下退火应力释放明显,200℃时应力释放充分,GaN的晶格常数接近标准值。继续升温应力不再发生明显变化,GaN薄膜的晶格常数只在标准晶格常数值附近波动。扫描电子显微镜给出的bonding层中Ag-In合金情况很好地解释了薄膜芯片应力的变化。
汤英文熊传兵王佳斌
关键词:硅衬底GAN应力XRD
共1页<1>
聚类工具0