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朱宇峰

作品数:3 被引量:9H指数:2
供职机构:西安应用光学研究所更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇电子电信

主题

  • 3篇微通道板
  • 2篇MCP
  • 1篇增强器
  • 1篇数对
  • 1篇微光像增强器
  • 1篇像增强器
  • 1篇离子反馈
  • 1篇离子阻挡膜
  • 1篇溅射
  • 1篇防离子反馈膜
  • 1篇分辨力
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 3篇西安应用光学...
  • 1篇微光夜视技术...

作者

  • 3篇朱宇峰
  • 2篇张太民
  • 2篇石峰
  • 1篇师宏立
  • 1篇郭晖
  • 1篇程耀进
  • 1篇贺英萍
  • 1篇拜晓锋
  • 1篇袁晓曼
  • 1篇聂晶

传媒

  • 3篇应用光学

年份

  • 1篇2010
  • 1篇2009
  • 1篇2008
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
MCP参数对微光像增强器分辨力影响研究被引量:6
2010年
为了全面分析微通道板(MCP)参数对微光像增强器分辨力的影响,利用电子散射理论分析了MCP输出电子横向散射和MCP非开口面的电子散射情况,得到了MCP通道间距、输出电极结构和开口面积比等参数对微光像增强器分辨力的影响。分析结果指出:通过减小通道间距、采用MCP输出面镀多层电极或增加MCP输出端电极深度实现减小MCP输出电子横向扩散、增加开口面积比等,提高整个微光像增强器的分辨力。试验证明该方法有助于提高微光像增强器分辨力。
程耀进石峰郭晖朱宇峰袁晓曼
关键词:微通道板微光像增强器分辨力
低磁控溅射率MCP防离子反馈膜工艺研究被引量:2
2008年
为消除反馈正离子对三代微光夜视器件光阴极的有害轰击,提高微光像增强器的工作寿命,开展了低磁控溅射率法沉积微通道板(MCP)Al2O3防离子反馈膜的工艺研究。通过优化制备工艺,获得了制备MCP防离子反馈膜的最佳沉积条件:溅射电压1000V,溅射气压(4~5)×10^-2Pa,沉积速率0.5nm/min等。研究结果表明:在此工艺条件下,能够制备出均匀、致密且通孔满足质量要求的MCP防离子反馈膜。如果偏离这一最佳工艺条件,制备出的MCP防离子反馈膜膜层疏松、不连续,且通孔不能满足要求。
朱宇峰张太民聂晶师宏立
关键词:磁控溅射防离子反馈膜
微光像增强管离子阻挡膜质量测试技术研究被引量:1
2009年
鉴于通常制作的离子阻挡膜存在通孔,在阴极低电压下,经MCP电子倍增在荧光屏上显示为亮孔,为测试出规则与不规则亮孔的大小和数量,提出了一种像管的离子阻挡膜质量测试方法。该方法是在规定电压和光阴极照度的条件下,使像管光阴极接收约2lx的光照射,给像管各极施加电压使像管荧光屏上离子阻挡膜亮孔清晰可见,用10倍显微镜或相机拍照,观察荧光屏所成的离子阻挡膜通孔图像。试验结果表明:在相同的测试条件下,离子阻挡膜的制作工艺不同,离子阻挡膜质量亦不同。
贺英萍张太民石峰朱宇峰拜晓锋
关键词:微通道板离子阻挡膜
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