刘刚
- 作品数：57 被引量：190H指数：8
- 供职机构：中国科学技术大学核科学技术学院国家同步辐射实验室更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：电子电信机械工程理学自动化与计算机技术更多>>
- 基于软X射线成像菲涅耳波带片精确光学传递函数的离焦图像恢复
- 2017年
- 高分辨率软X射线显微成像已被广泛用于获得样品的三维结构.然而,焦深的受限问题导致样品投影图像离焦模糊,严重影响图像质量.提出了一种基于菲涅尔波带片的光学传递函数离焦图像的恢复方法.利用这种恢复方法,恢复了Siemens star测试板的离焦图像.结果表明,基于光学传递函数的恢复方法能够去除因离焦而造成模糊现象并且恢复由离焦引起的离焦图像.而且,相关的模拟说明这种方法可以真正用于解决X射线显微成像中焦深受限问题,完成样品的三维成像.
- 李法虎关勇熊瑛张晓波刘刚田扬超
- 关键词：光学传递函数图像恢复菲涅耳波带片
- X射线光刻多介质T型栅制作技术
- 现代应用需求使半导体器件向高频高速方向发展,PHEMT以其高频高速低噪声受到人们重视而发展迅速.在PHEMT的制作工艺中,栅线条的制作是至关重要而又极为困难的.我们采用X射线多层介质工艺制作T型栅,其形貌清晰,线条基本可...
- 刘刚
- 关键词：X射线PHEMTT型栅光刻
- 文献传递网络资源链接
- 热压印技术制作纳米光栅被引量：2
- 2008年
- 通过分析脱模过程的摩擦力,讨论了模具表面处理工艺与压模质量的关系,给出了降低脱膜过程摩擦力的工艺方法。实验结果表明,用类聚四氟乙烯膜作为脱模剂能大大减小模具表面与聚合物表面的摩擦力。研究了压模、脱模工艺参数对实验结果的影响,基于HEX-02塑铸系统,真空条件下,在压模温度为195℃,模压压强为8 MPa的环境下,利用热压印技术在PMMA薄膜上复制出周期为120 nm的纳米光栅。
- 熊瑛刘刚田扬超
- 关键词：PMMA
- 合肥光源深X-射线光刻模拟被引量：4
- 2002年
- 论文对合肥同步辐射光源开展深度X 射线光刻进行了理论模拟 .利用Gauss积分法研究了菲涅耳衍射对深度光刻图形精度的影响 .为了模拟衬底产生的光电子对光刻结果的影响 ,构建了一个MonteCarlo模型并进行了模拟 .计算结果表明 。
- 田学红刘刚田扬超张新夷
- 关键词：菲涅耳衍射光电子同步辐射光源
- SU-8的紫外深度光刻模拟被引量：12
- 2002年
- 在微电子机械系统 (MEMS)中 ,大高宽比微结构被广泛应用。由于紫外光衍射效应比较大 ,通过紫外光刻获得高精度的大高度微结构并不容易。本文主要研究了衍射效应对深紫外光刻精度的影响 ,并与实验结果进行了比较 ,理论模拟结果和实验比较吻合。因此 ,通过模拟结果得到不同厚度光刻胶的最佳曝光剂量 。
- 田学红刘刚田扬超张新夷
- 关键词：SU-8紫外光刻MEMS光刻胶
- 一种制作微流体管道的新工艺
- 微电子机械系统(MEMS)是一项多学科交叉的高新技术,为各学科的发展开辟了新的领域.流体力学就是微电子机械系统研究中一个不可缺少的部分.微流体管道是微流体系统的重要部件之一.硅工艺制作微流体管道主要采用刻蚀工艺,得到的微...
- 刘刚田扬超阚娅
- 关键词：光刻封装MEMS微电子机械系统微细加工
- 文献传递
- 基于X射线相衬成像技术的光栅品质无损检测（英文）
- 2016年
- 提出了一种基于X射线光栅像衬成像技术的光栅品质无损检测方法.我们发现利用传统的吸收信号很容易检测到光栅电镀缺陷,而由非均匀紫外曝光导致的光栅缺陷则可以通过相衬信号进行检测.实验结果证明,在一种利用实验室光源同时产生吸收信号和相位信号的大视场实验平台上,X射线相位衬成像技术可以很好地运用到光栅缺陷的快速检测以及其他类似的电刻产品的品质检测上.
- 张灿王圣浩韩华杰杨萌邵其刚胡仁芳高昆刘刚
- 关键词：无损检测
- 接近式光刻的计算机模拟研究被引量：8
- 2003年
- 分析了菲涅耳近似模型在接近式光刻模拟中的应用和误差起源 ,并根据光的标量衍射理论 ,对菲涅耳近似模型进行了修正 ,得到了更加准确的类菲涅耳近似模型 ;
- 田学红刘刚田扬超张新夷张鹏
- 关键词：接近式光刻计算机模拟菲涅耳衍射微机电系统
- Ni和Ni-PTFE自润滑模具的脱模研究被引量：3
- 2003年
- 微塑铸是LIGA技术大批量、低成本生产的关键技术。由于LIGA技术制造的微结构具有较大的高宽比 ,在脱模过程中 ,模具侧壁与塑铸材料之间会存在较大的摩擦力。这种摩擦力会损毁模具或塑铸产品 ,从而给脱模带来困难。本文制作了镍 (Ni)模具和Ni PTFE(聚四氟乙烯 )模具 ,并比较其脱模效果。试验表明 ,对同一种微结构 ,Ni PTFE模具的连续脱模次数要多于Ni模具。
- 张鹏刘刚田扬超
- 关键词：镍脱模LIGA技术表面性能
- UV-LIGA技术制造微型电磁继电器的初步研究被引量：5
- 2002年
- 详细阐述了一种微型电磁继电器的设计和初步研制过程。该微继电器主要由电极、悬臂梁结构和电磁线圈组成。设计过程中考虑了微继电器打开、闭合时电磁力、静电力和悬臂梁回复力之间的制约关系,即微继电器打开时悬臂梁回复力应大于接触部位的静电力;闭合时电磁力应大于悬臂梁的回复力。从而推算出电磁线圈的安匝数和悬臂梁结构尺寸的合理范围并选定了合适的参数,用UV-LIGA技术初步制作了这种微型电磁继电器的主要部分。
- 张鹏刘刚田扬超
- 关键词：UV-LIGA技术微型电磁继电器MEMS
