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林发永

作品数：8 被引量：0H指数：0
供职机构：清华大学信息科学技术学院微电子学研究所更多>>
发文基金：国家科技攻关计划更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术更多>>

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地区

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共 17 条 记 录，以下是 1-10
刘志弘
供职机构：清华大学
研究主题：双极晶体管 发射区 锗硅异质结双极晶体管 发射极 锗硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
仲涛
供职机构：清华大学
研究主题：RIE 集成电路 正交试验 铝 VLSI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
付玉霞
供职机构：清华大学
研究主题：SIGE_HBT 集成电路 HBT 干法刻蚀 SIGE
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
朱小琳
供职机构：清华大学信息科学技术学院微电子学研究所
研究主题：计算机辅助制造 集成电路 质量管理 设备管理 数据库系统
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
乔忠林
供职机构：清华大学
研究主题：EEPROM 掺杂 半导体工艺 存储器 长城文化
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
曾莹
供职机构：清华大学信息科学技术学院微电子学研究所
研究主题：集成电路 计算机辅助制造 质量管理 HSPICE ESD保护结构
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘爱华
供职机构：清华大学信息科学技术学院微电子学研究所
研究主题：SIGE 低噪声 SIGE_HBT 微波 HBT
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
向采兰
供职机构：清华大学信息科学技术学院微电子学研究所
研究主题：集成电路 计算机辅助制造 数据库 CAM MOS器件
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
鲁勇
供职机构：北京大学
研究主题：干法刻蚀 二氧化硅 厚度 行政区域 均匀性
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
仲涛
供职机构：北京大学
研究主题：干法刻蚀 二氧化硅 厚度 均匀性
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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