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韦亚一

作品数：196 被引量：34H指数：4
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张利斌
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：光刻 掩模 光源 线条 套刻
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董立松
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：光刻 矢量 成像模型 光源 掩模
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
粟雅娟
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：光刻 版图 石墨烯 掺杂 衬底
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
何建芳
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：掩模 光刻 光源 光刻工艺 仿真方法
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈颖
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：版图 特征向量 光刻 坏点 采样点
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王文武
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：半导体器件 沟道 刻蚀 纳米线 半导体
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
邵花
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：SUB 陶瓷涂层 等离子体喷涂 等离子喷涂 杂色
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郭沫然
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：光刻 掩模 版图 光源 EUV
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王向朝
供职机构：中国科学院上海光学精密机械研究所
研究主题：光刻机 投影物镜 波像差 干涉仪 掩模
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李俊杰
供职机构：中国科学院微电子研究所
研究主题：刻蚀 半导体器件 沟道 纳米线 电子设备
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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