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高娇娇

作品数：16 被引量：49H指数：5
供职机构：河北工业大学电子信息工程学院更多>>
发文基金：国家中长期科技发展规划重大专项河北省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
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合作作者

领域

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主题

  • 18个阻挡层
  • 17个化学机械抛光
  • 17个机械抛光
  • 17个CMP
  • 16个抛光液
  • 15个平坦化
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  • 14个抛光
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机构

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资助

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传媒

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  • 1个教育与职业

地区

  • 14个天津市
  • 6个河北省
共 20 条 记 录，以下是 1-10
王辰伟
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 阻挡层 抛光液 碱性抛光液 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘玉岭
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
蔡婷
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：CMP TSV 化学机械平坦化 多胺 络合剂
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈蕊
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：CMP 铜布线 抛光液 化学机械抛光 阻挡层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王胜利
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 化学机械抛光 抛光液 螯合剂 去除速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
崔晋
供职机构：河北大学物理科学与技术学院静电研究所
研究主题：辊式 静电分选 高压放电 等势线 静电场
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
曹阳
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 化学机械平坦化 碟形 铜布线 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张文倩
供职机构：河北工业大学电子信息工程学院
研究主题：CMP 化学机械抛光 去除速率 铝栅 表面粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
马锁辉
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：CMP TSV 阻挡层 化学机械平坦化 多胺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
栾晓东
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：化学机械抛光 CMP 去除速率 碱性 阻挡层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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