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陈蕊

作品数:7 被引量:20H指数:3
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所更多>>
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领域

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主题

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地区

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13 条 记 录,以下是 1-10
刘玉岭
供职机构:河北工业大学
研究主题:化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王辰伟
供职机构:河北工业大学
研究主题:CMP 阻挡层 抛光液 碱性抛光液 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
蔡婷
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:CMP TSV 化学机械平坦化 多胺 络合剂
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高娇娇
供职机构:河北工业大学电子信息工程学院
研究主题:CMP 阻挡层 抛光液 化学机械抛光 碱性
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
曹阳
供职机构:河北工业大学
研究主题:CMP 化学机械平坦化 碟形 铜布线 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
田园
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:CMP AL合金 碱性条件 活性剂 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李海龙
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:CMP HCL 钽 盐酸胍 阻挡层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨昊鹍
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:抛光液 CMP 化学机械抛光 硅衬底 碱性条件
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张宏远
供职机构:河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题:CMP 抛光速率 HCL 钽 盐酸胍
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
何彦刚
供职机构:河北工业大学
研究主题:抛光液 阻挡层 化学机械抛光 抛光表面 水溶液聚合
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
共2页<12>
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