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雷志锋

作品数：58 被引量：76H指数：5
供职机构：工业和信息化部电子第五研究所更多>>
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恩云飞
供职机构：工业和信息化部电子第五研究所
研究主题：可靠性 集成电路 单粒子效应 木马 电迁移
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张战刚
供职机构：工业和信息化部电子第五研究所
研究主题：单粒子效应 单粒子翻转 重离子 软错误 加速器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
黄云
供职机构：信息产业部电子第五研究所
研究主题：可靠性 集成电路 单粒子效应 寿命评价 裸芯片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
何玉娟
供职机构：工业和信息化部电子第五研究所
研究主题：总剂量效应 MOS器件 总剂量辐照 绝缘体上硅 SOI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
黄云
供职机构：工业和信息化部电子第五研究所
研究主题：单粒子翻转 单粒子效应 绝缘体上硅 静态随机存取存储器 中子
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨少华
供职机构：工业和信息化部电子第五研究所
研究主题：斯特林制冷机 可靠性 寿命评价 红外焦平面 污染
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
路国光
供职机构：工业和信息化部电子第五研究所
研究主题：半导体激光器 垂直外腔面发射激光器 激光器 大功率半导体激光器 腔面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈辉
供职机构：信息产业部电子第五研究所
研究主题：电磁兼容 红外焦平面阵列 红外焦平面 标准差 定值
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
师谦
供职机构：工业和信息化部电子第五研究所
研究主题：MOS器件 集成电路 总剂量效应 X射线 单粒子翻转
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王晓晗
供职机构：华东理工大学
研究主题：催化剂 顺酐 正丁烷 红外焦平面阵列 红外焦平面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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