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张文倩

作品数：9 被引量：31H指数：4
供职机构：河北工业大学电子信息工程学院更多>>
发文基金：国家中长期科技发展规划重大专项河北省自然科学基金河北省教育厅科研基金更多>>
相关领域：电子电信金属学及工艺更多>>

合作作者

领域

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主题

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  • 12个CMP
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  • 11个机械抛光
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机构

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传媒

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地区

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共 12 条 记 录，以下是 1-10
刘玉岭
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王辰伟
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 阻挡层 抛光液 碱性抛光液 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高娇娇
供职机构：河北工业大学电子信息工程学院
研究主题：CMP 阻挡层 抛光液 化学机械抛光 碱性
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
栾晓东
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：化学机械抛光 CMP 去除速率 碱性 阻挡层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
冯翠月
供职机构：河北工业大学电子信息工程学院
研究主题：铝栅 CMP 化学机械抛光 碱性抛光液 去除速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王胜利
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 化学机械抛光 抛光液 螯合剂 去除速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
付蕾
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 钴 电偶腐蚀 H2O2 铜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王娟
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 硅溶胶 抛光液 超大规模集成电路
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
马欣
供职机构：河北工业大学电子信息工程学院
研究主题：碱性抛光液 化学机械抛光 CMP 铝栅 H2O2
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
洪姣
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP BTA 螯合剂 接触角 苯并三氮唑
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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