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刘林杰

作品数：17 被引量：1H指数：1
供职机构：中国科学院上海微系统与信息技术研究所更多>>
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地区

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共 14 条 记 录，以下是 1-10
陈达
供职机构：中国科学院上海微系统与信息技术研究所
研究主题：弛豫 衬底 离子注入 绝缘体 单晶薄膜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
薛忠营
供职机构：中国科学院上海微系统与信息技术研究所
研究主题：衬底 石墨烯 绝缘体 弛豫 键合
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张苗
供职机构：中国科学院上海微系统与信息技术研究所
研究主题：石墨烯 绝缘体 衬底 离子注入 弛豫
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
狄增峰
供职机构：中国科学院上海微系统与信息技术研究所
研究主题：石墨烯 绝缘体 衬底 锗 离子注入
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
姜海涛
供职机构：中国科学院上海微系统与信息技术研究所
研究主题：弛豫 衬底 半导体工艺 半导体 半导体材料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
卞建涛
供职机构：中国科学院上海微系统与信息技术研究所
研究主题：弛豫 衬底 氢离子 快速热退火 迁移率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
母志强
供职机构：中国科学院上海微系统与信息技术研究所
研究主题：绝缘体 键合 离子注入 单晶薄膜 图形化
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
高晓强
供职机构：中国科学院上海微系统与信息技术研究所
研究主题：衬底 弛豫 超高真空化学气相沉积 分子束外延 快速热退火
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王刚
供职机构：中国科学院上海微系统与信息技术研究所
研究主题：石墨烯 绝缘体 键合 离子注入 单晶薄膜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
叶林
供职机构：中国科学院上海微系统与信息技术研究所
研究主题：锗 图形化 离子注入技术 单晶薄膜 晶格失配
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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