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邢少川

作品数：3 被引量：15H指数：2
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所更多>>
发文基金：天津市自然科学基金国家科技重大专项河北省自然科学基金更多>>
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领域

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机构

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传媒

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地区

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共 11 条 记 录，以下是 1-10
田雨
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 化学机械抛光 粗糙度 表面粗糙度 磨料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘玉岭
供职机构：河北工业大学
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 去除速率 ULSI
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘效岩
供职机构：北京七星华创电子股份有限公司
研究主题：化学机械抛光 CMP 晶片 工艺技术 硅片表面
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王辰伟
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 阻挡层 抛光液 碱性抛光液 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
马迎姿
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：粗糙度 表面粗糙度 CMP 化学机械抛光 磨料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘利宾
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：抛光 CMP 化学机械抛光 去除速率 插塞
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王林锋
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所
研究主题：采样保持电路 流水线模数转换器 自举开关 增益自举 运算放大器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王胜利
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 化学机械抛光 抛光液 螯合剂 去除速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周建伟
供职机构：河北工业大学
研究主题：CMP 化学机械抛光 硅溶胶 抛光液 硅晶片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
胡轶
供职机构：新疆师范大学化学化工学院
研究主题：化学机械抛光 CMP 抛光液 碱性抛光液 抛光速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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