您的位置: 专家智库 > >

国家自然科学基金(10876023)

作品数:4 被引量:11H指数:2
相关作者:王占山朱京涛涂昱淳宋竹青黄秋实更多>>
相关机构:同济大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金上海市教育发展基金会晨光计划项目上海市自然科学基金更多>>
相关领域:理学机械工程一般工业技术更多>>

文献类型

  • 4篇中文期刊文章

领域

  • 3篇机械工程
  • 3篇理学
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 3篇多层膜
  • 3篇MO/SI
  • 2篇溅射
  • 2篇反射率
  • 2篇MO/SI多...
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇直径
  • 1篇偏振
  • 1篇评价函数
  • 1篇起偏器
  • 1篇周期多层膜
  • 1篇均匀性
  • 1篇极紫外
  • 1篇溅射制备
  • 1篇NUMERI...
  • 1篇REFLEC...
  • 1篇REFLEC...
  • 1篇MIRROR
  • 1篇磁控溅射制备

机构

  • 3篇同济大学

作者

  • 3篇朱京涛
  • 3篇王占山
  • 1篇张众
  • 1篇徐敬
  • 1篇潘磊
  • 1篇王晓强
  • 1篇黄秋实
  • 1篇谭默言
  • 1篇宋竹青
  • 1篇涂昱淳

传媒

  • 3篇强激光与粒子...
  • 1篇Chines...

年份

  • 3篇2011
  • 1篇2010
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
磁控溅射制备横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜被引量:7
2011年
采用磁控溅射方法在Si基板上镀制了横向梯度分布的Mo/Si周期多层膜。以X射线掠入射反射测量了横向梯度多层膜的膜系结构,在基板65mm长度范围内,多层膜周期从8.21nm线性减小到6.57nm,周期梯度为0.03nm/mm。国家同步辐射实验室反射率计的反射率测试结果表明:该横向梯度分布周期多层膜上不同位置,能反射在13.3~15.9nm波段范围内不同波长的极紫外光,反射率为60%~65%。
涂昱淳宋竹青黄秋实朱京涛徐敬王占山李乙洲刘佳琪张力
关键词:MO/SI多层膜磁控溅射反射率
基于评价函数的极紫外多层膜反射式起偏器和检偏器设计
2011年
基于三种不同评价函数,利用全局优化算法设计了极紫外波段高性能反射式多层膜偏振元件。通过比对不同评价函数的设计结果,分析了评价函数、工作角度及膜层数对反射式多层膜偏振片性能的影响,确定了极紫外多层膜反射式偏振片设计的角度选择、膜层数选择及评价函数选择标准。为解决传统的单一性能优化造成的偏振度损失的问题,构造了偏振比对数结合反射率的评价函数,该方法设计的偏振元件性能优于传统优化方法设计的结果。
谭默言朱京涛王占山
关键词:多层膜偏振极紫外评价函数
Mo/Si aperiodic multilayer broadband reflective mirror for 12.5-28.5-nm wavelength range被引量:1
2011年
Aperiodic molybdenum/silicon (Mo/Si) multilayer designed as a broadband reflective mirror with mean reflectivity of 10% over a wide wavelength range of 12.5-28.5 nm at incidence angle of 5° is developed using a numerical optimized method. The multilayer is prepared using direct current magnetron sputtering technology. The reflectivity is measured using synchrotron radiation. The measured mean reflectivity is 7.0% in the design wavelength range of 12.5-28.5 nm. This multilayer broadband reflective mirror can be used in extreme ultraviolet measurements and will greatly simplify the experimental arrangements.
谭默言李浩川黄秋实周洪军霍同林王晓强朱京涛
关键词:REFLECTION
磁控溅射方法制备直径120mm高均匀性Mo/Si多层膜被引量:3
2010年
为满足极紫外、软X射线和X射线大口径多层膜反射镜的需求,采用基板扫掠过矩形靶材表面的镀膜方法,在直径120 mm的平面基板上镀制了Mo/Si周期多层膜。通过调整基板扫掠过矩形靶材表面的速率修正了薄膜的沉积速率,极大地提高了薄膜厚度的均匀性。采用X射线衍射仪对反射镜不同位置多层膜周期厚度进行了测量,结果表明,在直径120 mm范围内,Mo/Si多层膜周期厚度的均匀性达到了0.26%。同步辐射测量多层膜样品不同位置处的反射率,结果表明,在直径120 mm范围内,多层膜的膜层厚度均匀,在入射角10°时13.75 nm波长处平均反射率为66.82%。
潘磊王晓强张众朱京涛王占山李乙洲李宏杰王道荣赵巨岩陆伟
关键词:MO/SI多层膜磁控溅射均匀性反射率
共1页<1>
聚类工具0